武汉精创电子技术有限公司程果获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉精创电子技术有限公司申请的专利一种基于制程区域的晶粒外观检测方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113889422B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111141388.3，技术领域涉及：H10P74/20；该发明授权一种基于制程区域的晶粒外观检测方法及系统是由程果设计研发完成，并于2021-09-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种基于制程区域的晶粒外观检测方法及系统在说明书摘要公布了：本发明提供一种基于制程区域的晶粒外观检测方法，包括如下步骤：获取晶圆上的标准晶粒，并对所述标准晶粒进行基于制程的区域划片；通过选取所述标准晶粒的特征点来对所述晶圆上的待测晶粒进行对位；基于所述标准晶粒的不同制程区域提取所述待测晶粒的对应制程区域；对所述待测晶粒的不同制程区域采用对应制程的检测方法进行缺陷检测。本发明通过对待测晶粒进行基于制程的区域提取，并对不同制程的区域采用不同的检测方法进行缺陷检测，提高了检测的精度及效率；同时，采用同一标准晶粒作为所有待测晶粒的对比标准，提高了检测的鲁棒性。
本发明授权一种基于制程区域的晶粒外观检测方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种基于制程区域的晶粒外观检测方法，其特征在于，包括如下步骤： 获取晶圆上的标准晶粒，并对所述标准晶粒进行基于制程的区域划片； 通过选取所述标准晶粒的特征点来对所述晶圆上的待测晶粒进行对位； 基于所述标准晶粒的不同制程区域提取所述待测晶粒的对应制程区域； 对所述待测晶粒的不同制程区域采用对应制程的检测方法进行缺陷检测。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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