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龙图腾网获悉上海华力集成电路制造有限公司申请的专利晶圆图像形变的修正方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115561974B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211343910.0，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权晶圆图像形变的修正方法是由郭鑫;周侃;周文湛设计研发完成，并于2022-10-31向国家知识产权局提交的专利申请。

本晶圆图像形变的修正方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种晶圆图像形变的修正方法，提供一表面具有布线图形的晶圆，获取所述晶圆的设计版图和扫描图像，所述设计版图包括与所述布线图形相对应的设计图形，所述扫描图像包括与所述布线图形相对应的扫描图形；将所述扫描图像的中心与所述设计版图的中心对准，使所述扫描图像与所述设计版图重合，分别提取所述设计图形和所述扫描图形，所述设计图形和所述扫描图形不完全重合；以及，根据所述设计图形对所述扫描图形进行修正，使修正后的扫描图形与所述设计图形重合，从而获得所述测试晶圆的修正图像，所述修正图像包括修正后的扫描图形。本发明通过修正晶圆的具有图形形变的扫描图像，得到了更符合实际情况的修正图像。

本发明授权晶圆图像形变的修正方法在权利要求书中公布了：1.一种晶圆图像形变的修正方法，其特征在于，包括： 提供一晶圆，所述晶圆的表面具有一布线图形； 获取所述晶圆的设计版图和扫描图像，所述设计版图包括与所述布线图形相对应的设计图形，所述扫描图像包括与所述布线图形相对应的扫描图形； 将所述扫描图像的中心与所述设计版图的中心对准，使所述扫描图像与所述设计版图重合，分别提取所述设计图形和所述扫描图形，所述设计图形和所述扫描图形不完全重合；以及， 根据所述设计图形对所述扫描图形进行修正，使修正后的扫描图形与所述设计图形重合，从而获得所述测试晶圆的修正图像，所述修正图像包括修正后的扫描图形； 其中，根据所述设计图形对所述扫描图形进行修正，使修正后的扫描图形与所述设计图形重合的过程包括：建立位置坐标系，获取所述设计图形中所有所述设计采样点的设计坐标，以及所述扫描图形中所有所述扫描采样点的扫描坐标；根据所述设计采样点的设计坐标与所述扫描采样点的扫描坐标建立图形修正公式；以及，根据所述图形修正公式获取所述扫描图形中的每个像素点的修正值，对每个所述像素点的位置坐标进行修正； 根据所述设计采样点的设计坐标与所述扫描采样点的扫描坐标建立图形修正公式的过程包括：将所述扫描图像划分为多个修正区域，每个所述修正区域至少包括两个所述扫描采样点；根据所述修正区域内所有所述扫描采样点的扫描坐标，以及每个所述扫描采样点分别对应的设计采样点的设计坐标，计算得到所述修正区域对应的图形修正公式。

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