京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司王云浩获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司申请的专利显示基板及其制备方法和显示装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115702610B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-07发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180001209.8，技术领域涉及：H10K50/86；该发明授权显示基板及其制备方法和显示装置是由王云浩;侯鹏;韩永占;何源;黄灿;李振;王玉林;鲍建东;赵鹏程;杜宜德设计研发完成，并于2021-05-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本显示基板及其制备方法和显示装置在说明书摘要公布了：本发明提供了一种显示基板及其制备方法和显示装置。该显示基板，包括衬底基板、封装层、滤光层与光学膜层。封装层位于衬底基板上，滤光层位于封装层中，滤光层包括黑矩阵；黑矩阵包括黑矩阵开口。光学膜层位于封装层远离衬底基板的一侧，光学膜层被配置为对入射光部分透射与部分吸收，光学膜层的透光率大于黑矩阵的透光率，光学膜层包括光学膜层开口，光学膜层开口在衬底基板上的投影位于黑矩阵开口在衬底基板上的投影内。本发明实施例提供的技术方案，可以改善暗态色分离现象。
本发明授权显示基板及其制备方法和显示装置在权利要求书中公布了：1.一种显示基板，其特征在于，包括： 衬底基板； 像素界定层，位于所述衬底基板上；所述像素界定层包括像素界定层开口； 封装层，位于所述像素界定层远离所述衬底基板的一侧；所述封装层包括第一无机封装层，所述第一无机封装层位于所述像素界定层远离所述衬底基板的一侧； 滤光层，位于所述封装层中，且位于所述第一无机封装层远离所述衬底基板的一侧；所述滤光层包括彩色滤光层； 所述滤光层还包括黑矩阵，所述黑矩阵位于所述彩色滤光层远离所述第一无机封装层的一侧，所述黑矩阵包括黑矩阵开口； 光学膜层，位于所述封装层远离所述衬底基板的一侧，所述光学膜层被配置为对入射光部分透射与部分吸收，所述光学膜层的透光率大于所述黑矩阵的透光率，所述光学膜层包括光学膜层开口，所述光学膜层开口在所述衬底基板上的投影位于所述黑矩阵开口在所述衬底基板上的投影内。
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