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龙图腾网获悉深圳市中达瑞和科技有限公司申请的专利线性渐变滤光片膜片结构及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121522791B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-10发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202610060024.9，技术领域涉及：G02B5/28；该发明授权线性渐变滤光片膜片结构及其制备方法是由郑帆;邓以实;张崇磊;梁正平;刘湘宇;符哲通;梁洪易设计研发完成，并于2026-01-16向国家知识产权局提交的专利申请。

本线性渐变滤光片膜片结构及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及光谱光学元件技术领域，提供了一种线性渐变滤光片膜片结构及其制备方法，包括石英玻璃基底、石英玻璃基底上镀膜第一近红外区域层、沉积于第一近红外区域层的第一过渡膜层、在第一过渡膜层上镀膜第二近红外区域层、沉积于第二近红外区域层的第二过渡膜层、在第二过渡膜层上镀膜第三近红外区域层、在第三近红外区域层上沉积区隔层以及在区隔层上沉积防刮层；石英玻璃基底、第一近红外区域层、第一过渡膜层及第二近红外区域层的宽度相等；第二过渡膜层、第三近红外区域层、区隔层及防刮层的宽度相等；第二近红外区域层的宽度小于第二过渡膜层的宽度以形成阶梯状结构。本发明实现900nm~2500nm波段光谱检测全覆盖及稳定性。

本发明授权线性渐变滤光片膜片结构及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种线性渐变滤光片膜片结构，其特征在于，所述线性渐变滤光片膜片结构包括石英玻璃基底、在所述石英玻璃基底上镀膜形成的第一近红外区域层、沉积于所述第一近红外区域层的第一过渡膜层、在所述第一过渡膜层上镀膜形成的第二近红外区域层、沉积于所述第二近红外区域层的第二过渡膜层、在所述第二过渡膜层上镀膜形成的第三近红外区域层、在所述第三近红外区域层上沉积区隔层以及在所述区隔层上沉积防刮层；所述石英玻璃基底、所述第一近红外区域层、所述第一过渡膜层及所述第二近红外区域层的宽度相等；所述第二过渡膜层、所述第三近红外区域层、所述区隔层及所述防刮层的宽度相等；所述第二近红外区域层的宽度小于所述第二过渡膜层的宽度以形成阶梯状结构； 所述石英玻璃基底用于支撑所述第一近红外区域层； 所述第一近红外区域层用于透过900nm~1400nm波长的入射光源； 所述第一过渡膜层用于实现所述第一近红外区域层与所述第二近红外区域层之间的固定连接； 所述第二近红外区域层用于透过1400nm~2000nm波长的入射光源； 所述第二过渡膜层用于实现所述第二近红外区域层与所述第三近红外区域层之间的固定连接； 所述第三近红外区域层用于透过2000nm~2500nm波长的入射光源； 所述区隔层用于对所述第一近红外区域层、所述第二近红外区域层及所述第三近红外区域层实现区域光学隔离； 所述防刮层用于对所述区隔层实现保护。

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