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华融化学(成都)有限公司廖常福获国家专利权

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龙图腾网获悉华融化学(成都)有限公司申请的专利一种电子级氢氧化钾及其溶液的制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN117865176B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-14发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202410006315.0,技术领域涉及:C01D1/04;该发明授权一种电子级氢氧化钾及其溶液的制备方法是由廖常福;刘鹏程;罗小容;邓兴中;何加秀;陈辉祥设计研发完成,并于2024-01-03向国家知识产权局提交的专利申请。

一种电子级氢氧化钾及其溶液的制备方法在说明书摘要公布了:本发明属于电子级材料制备领域。提供了一种电子级氢氧化钾及其溶液的制备方法,该电子级氢氧化钾溶液的制备方法包括:S1.将结晶纯化后的氢氧化钾晶体装填至耐碱腐蚀容器中形成晶体层,晶体层厚度为Lcm;S2.在晶体层底部施加周期变化的负压;S3.在晶体层顶部连续加入洗涤液A,在晶体层底部收集日化级氢氧化钾溶液;当步骤S3中晶体层底部出液口的溶液杂质含量≤设定值时,进行步骤S4;S4.在晶体层顶部连续加入洗涤液B,在晶体层底部出料口收集电子级氢氧化钾溶液;S5.当晶体层的厚度为14L~12时,在晶体层顶部连续加入洗涤液C,在晶体层底部收集料液C。该方法能够生产质量稳定的电子级氢氧化钾及电子级氢氧化钾溶液,且具有较高的收率。

本发明授权一种电子级氢氧化钾及其溶液的制备方法在权利要求书中公布了:1.一种电子级氢氧化钾的制备方法,其特征在于,包括如下步骤: S1.将结晶纯化后的氢氧化钾晶体装填至耐碱腐蚀容器中形成晶体层,装填的晶体层厚度记为Lcm; S2.在晶体层底部施加周期变化的负压,每个变化周期的时间为ts,真空度P的周期变化范围记为P1KPa≥P≥P2KPa;在每个变化周期内,负压值由P1到P2均匀稳定降低; S3.在晶体层顶部连续加入洗涤液A进行洗涤,在晶体层底部出料口收集日化级氢氧化钾溶液;所述洗涤液A选自超纯水和低钾液中的至少一种;所述低钾液为浓度小于42w%,且杂质含量小于设定值的氢氧化钾溶液; 当步骤S3中晶体层底部出液口的溶液杂质含量均小于或等于设定值时,进行步骤S4的操作; 所述设定值为目标产物电子级氢氧化钾要求的杂质含量允许的最高值; S4.停止洗涤,此时,所述耐碱腐蚀容器中的所述晶体层即为电子级氢氧化钾。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人华融化学(成都)有限公司,其通讯地址为:611930 四川省成都市彭州市九尺镇林杨路166号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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