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龙图腾网获悉四川大学申请的专利一种高透明耐刮擦的抗静电涂层及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118895075B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310482795.3，技术领域涉及：C09D143/04；该发明授权一种高透明耐刮擦的抗静电涂层及其制备方法是由韩迪;李晨宇;林雄;傅思睿;张琴;傅强设计研发完成，并于2023-05-03向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种高透明耐刮擦的抗静电涂层及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明属于先进涂料及制备领域，具体涉及一种高透明耐刮擦的多功能抗静电涂层及其制备方法。本发明提供一种高透明耐刮擦的抗静电涂层，所述抗静电涂层的原料包括内含氟离子的倍半硅氧烷单体、功能性单体和催化剂；其中，所述功能单体为交联剂或抗结晶剂。本发明所得涂层透光度＞98％550nm；表面铅笔硬度大于9H，钢丝绒摩擦超1000次不出现划痕；表面电阻率约108～109Ωsq，静电释放速率快。

本发明授权一种高透明耐刮擦的抗静电涂层及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种高透明耐刮擦的抗静电涂层，其特征在于，所述抗静电涂层的原料包括：内含氟离子的倍半硅氧烷单体、功能性单体和催化剂；其中，所述功能性单体为交联剂或抗结晶剂；所述功能性单体占内含氟离子的倍半硅氧烷单体摩尔量的5~20%；当所述内含氟离子的倍半硅氧烷单体的R为反应性基团时，所述功能性单体为交联剂；其与交联剂能够发生的反应包括：巯基-烯烃反应、开环反应和硅氧烷的水解缩合反应； 或：当内含氟离子的倍半硅氧烷单体的R为非反应性基团时，所述功能性单体为抗结晶剂；其与抗结晶剂能够发生硅氧键重排反应； 并且，所述内含氟离子的倍半硅氧烷单体采用下述制备方法制得：将POSS前驱体和离子对供体以1：0.5~1.2的摩尔比加入溶剂Ⅰ中，搅拌16～24小时得悬浊液，浑浊的悬浊液静置后变成半透明，然后将悬浊液浓缩过滤后并在真空下去除溶剂，最后干燥制得所述内含氟离子的倍半硅氧烷单体；其中，所述POSS前驱体选自下述结构式所示的至少一种物质： 、或； 其中R=、、、、、、、、、、、或反应性基团中的至少一种， 或为：、、、、或非反应性基团中的至少一种；所述溶剂Ⅰ为四氢呋喃、氯仿、甲苯、丙酮、二氯甲烷、二甲苯、甲醇、乙醇、乙二醇、乙酸乙酯、二氧六环、二甲基亚砜、N,N-二甲基甲酰胺或N,N-二甲基乙酰胺中的至少一种。

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