山东科技大学周仕学获国家专利权
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龙图腾网获悉山东科技大学申请的专利一种锌-二氯咪唑配位致密膜及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120630591B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510561973.0，技术领域涉及：G03F7/039；该发明授权一种锌-二氯咪唑配位致密膜及其制备方法是由周仕学;周心培;胡永丽;姜春慧设计研发完成，并于2025-04-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种锌-二氯咪唑配位致密膜及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明属于半导体器件制造技术领域，涉及正性电子束抗蚀膜的制备，具体涉及一种锌‑二氯咪唑配位致密膜及其制备方法。所述制备方法包括采用原子层沉积和分子层沉积交替沉积成膜，膜材料中含有电子束敏感离去基团，是一种正性抗蚀膜，未经电子束照射时，不会被六氟乙酰丙酮刻蚀，而经电子束照射后，能够用六氟乙酰丙酮刻蚀，成膜和刻蚀均不使用液态溶剂，不产生化学废液，具有环境友好性，该膜负载在5A沸石上，具有用于电子束光刻制作高精度图案的潜力，为硅基片上沉积正性电子束抗蚀膜工艺提供了一种潜在方案，可解决电子束抗蚀膜成膜过程使用液态溶剂和膜厚不均匀的问题，可在半导体先进制程等方面有重要应用。
本发明授权一种锌-二氯咪唑配位致密膜及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种锌-二氯咪唑配位致密膜，其特征在于，所述膜负载在5A沸石上，由前驱体二乙基锌与4,5-二氯咪唑在5A沸石颗粒表面上通过原子层沉积和分子层沉积交替沉积制得；未经电子束照射时，所述膜不会被六氟乙酰丙酮刻蚀，而添加固态氢化镁并经电子束照射后，能够用六氟乙酰丙酮刻蚀，为正性抗蚀膜。
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