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北京中科同志科技股份有限公司王发勇获国家专利权

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龙图腾网获悉北京中科同志科技股份有限公司申请的专利一种TEC芯片封装压接方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120854279B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-14发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510978535.4,技术领域涉及:H10W95/00;该发明授权一种TEC芯片封装压接方法是由王发勇;张延忠;赵永先;文爱新设计研发完成,并于2025-07-16向国家知识产权局提交的专利申请。

一种TEC芯片封装压接方法在说明书摘要公布了:本发明涉及芯片封装技术领域,提供一种TEC芯片封装压接方法。TEC芯片封装压接方法包括:包括:TEC工件及治具进入等离子清洗区,执行等离子清洗步骤;TEC工件及治具进入甲酸清洗区,执行甲酸清洗步骤;TEC工件及治具进入预热区,执行预热步骤;TEC工件及治具进入压接区,执行压接步骤;TEC工件及治具进入第一冷却区,执行第一冷却步骤;TEC工件及治具进入第二冷却区,执行第二冷却步骤。提高了TEC封装质量。

本发明授权一种TEC芯片封装压接方法在权利要求书中公布了:1.一种TEC芯片封装压接方法,其特征在于,包括: TEC工件及治具进入等离子清洗区,执行等离子清洗步骤; TEC工件及治具进入甲酸清洗区,执行甲酸清洗步骤; TEC工件及治具进入预热区,执行预热步骤; TEC工件及治具进入压接区,执行压接步骤; TEC工件及治具进入第一冷却区,执行第一冷却步骤; TEC工件及治具进入第二冷却区,执行第二冷却步骤; 所述甲酸清洗步骤,包括: 设置甲酸浓度为第一甲酸浓度,并且对甲酸清洗区腔体分段升压,第一甲酸浓度为2%; 第一甲酸清洗压力升压到第二甲酸清洗压力,以第一升压速率持续第一升压时间,第二甲酸清洗压力为0.6-0.8atm,第一升压速率为2-3atmmin; 第二甲酸清洗压力升压到第三甲酸清洗压力,以第二升压速率持续第二升压时间,第三甲酸清洗压力为0.9-1.0atm,第二升压速率为1.2-1.5atmmin; 第三甲酸清洗压力升压到第四甲酸清洗压力,以第三升压速率持续第三升压时间,第四甲酸清洗压力为1.05-1.06atm,第三升压速率为0.5-0.6atmmin。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人北京中科同志科技股份有限公司,其通讯地址为:101318 北京市顺义区中关村科技园区顺义园顺创二路1号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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