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龙图腾网获悉西安交通大学申请的专利一种抗疲劳Cu-Zr成分梯度合金薄膜及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121137525B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511381546.0，技术领域涉及：C23C14/20；该发明授权一种抗疲劳Cu-Zr成分梯度合金薄膜及其制备方法和应用是由吴凯;郭海翔;夏赟;王亚强;张金钰;刘刚;孙军设计研发完成，并于2025-09-25向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种抗疲劳Cu-Zr成分梯度合金薄膜及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明涉及电池集流体技术领域，具体涉及一种抗疲劳Cu‑Zr成分梯度合金薄膜及其制备方法和应用。抗疲劳Cu‑Zr成分梯度合金薄膜由基体和两个梯度膜制成，两个梯度膜对称沉积于基体的两侧，任一梯度膜沿厚度方向自表面至基体，由表面层、中间层、过渡层和底层依次层叠设置而成。本发明通过磁控溅射共溅射沉积工艺制备抗疲劳Cu‑Zr成分梯度合金薄膜，控制晶粒异常长大、延缓疲劳裂纹萌生并抑制疲劳裂纹扩展，改善了纳米晶金属薄膜的疲劳性能，有效抑制了疲劳裂纹的萌生和扩展，从而显著提高了Cu‑Zr成分梯度合金薄膜的疲劳寿命。

本发明授权一种抗疲劳Cu-Zr成分梯度合金薄膜及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种抗疲劳Cu-Zr成分梯度合金薄膜，其特征在于，所述抗疲劳Cu-Zr成分梯度合金薄膜由基体和两个梯度膜制成，两个梯度膜对称沉积于基体的两侧，任一梯度膜沿厚度方向自表面至基体，由表面层、中间层、过渡层和底层依次层叠设置而成； 表面层为Cu-7Zr合金层，Zr含量为7at.%~7.5at.%，厚度为50nm~80nm； 中间层为Cu-3Zr合金层，Zr含量为3at.%~3.2at.%，厚度为100nm~120nm； 过渡层为Cu-1Zr合金层，Zr含量为1at.%~1.2at.%，厚度为200nm~350nm； 底层为纯铜层，厚度为650nm~850nm； 任一梯度膜的总厚度为1200nm~1250nm； Cu-7Zr合金层、Cu-3Zr合金层和Cu-1Zr合金层均由Cu-Zr晶粒组成，且自表面至基体，Cu-Zr晶粒尺寸依次递增，形成晶粒尺寸梯度； 任一梯度膜中，纯Cu层与梯度膜的厚度比为52~68：100； Cu-1Zr合金层与梯度膜的厚度比为16~28：100； Cu-3Zr合金层与梯度膜的厚度比为8~10：100； Cu-7Zr合金层与梯度膜的厚度比为4~6：100； 任一梯度膜中，自表面至基体，存在组织与物相的变化： Cu-7Zr合金层呈非晶晶体双相组织； Cu-3Zr合金层和Cu-1Zr合金层均为Zr分布在Cu晶粒晶界； 纯Cu层为Cu晶粒。

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