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龙图腾网获悉中国科学院上海光学精密机械研究所申请的专利一种反射式体光栅均匀性提升装置与方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121386061B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511961773.0，技术领域涉及：G02B5/18；该发明授权一种反射式体光栅均匀性提升装置与方法是由晋云霞;莫建威;邵建达设计研发完成，并于2025-12-24向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种反射式体光栅均匀性提升装置与方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种反射式体光栅均匀性提升装置及方法，采用轴向曝光剂量补偿与双光束干涉曝光的双系统协同结构。轴向曝光剂量补偿系统通过记录介质光敏波段的激光辐照与记录介质的多轴旋转运动，补偿因能量衰减造成的轴向曝光剂量分布不均。双光束干涉曝光系统则利用记录介质高透过率波段的激光和偏振光束分离器产生两束偏振态与功率可调的准直相干光，并通过调整反射镜姿态精确控制干涉角度，在经轴向曝光剂量补偿的记录介质中写入高对比度光栅结构。本发明可有效解决传统制备工艺中激光能量衰减导致的曝光剂量分布不均问题，从而保障体光栅轴向性能的一致性，有力促进高性能激光合束、脉冲压缩及光通信滤波器等需高均匀性体光栅的领域的发展。

本发明授权一种反射式体光栅均匀性提升装置与方法在权利要求书中公布了：1.一种反射式体光栅均匀性提升装置，其特征在于，包括顺序使用的轴向曝光剂量补偿系统和双光束干涉曝光光栅结构写入系统，且两系统共用一装载记录介质1的多轴旋转样品台2； 所述轴向曝光剂量补偿系统包括波长位于记录介质1光敏波段内的第一激光光源3，以及沿该第一激光光源3光路依次设置的第一电控光阑4、激光功率调节器5和第一光束扩束准直单元6，所述第一光束扩束准直单元6的出射光作用于所述多轴旋转样品台2； 所述双光束干涉曝光光栅结构写入系统包括波长位于记录介质1高透过率波段内的第二激光光源7，以及用于将来自所述第二激光光源7的光束分束、准直并形成两束干涉光的干涉光路；所述干涉光路中，来自第二激光光源7的光束依次经过第二电控光阑8和第一激光偏振控制器9后入射至偏振光束分离器10，该偏振光束分离器10输出的反射光路上依次设有第一反射镜12和第二光束扩束准直单元13，其透射光路上则依次设有第二激光偏振控制器11、第二反射镜14和第三光束扩束准直单元15，所述第二与第三光束扩束准直单元13,15出射的两束准直光束以角度在所述多轴旋转样品台2处干涉。

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