ASML荷兰有限公司任伟明获国家专利权
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龙图腾网获悉ASML荷兰有限公司申请的专利用于信号电子探测的系统和方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115335950B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-17发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202180020567.3,技术领域涉及:H01J37/04;该发明授权用于信号电子探测的系统和方法是由任伟明;王勇新设计研发完成,并于2021-03-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于信号电子探测的系统和方法在说明书摘要公布了:公开了使用电子束装置观察样品的系统和方法。该电子束装置包括:电子源,其被配置为沿着主光轴404产生初级电子束;以及第一电子探测器420,其具有基本上平行于主光轴的第一探测层421,并且被配置为探测从样品上的探测斑点产生的多个信号电子412的第一部分。该方法可包括产生多个信号电子、并使用基本上平行于初级电子束的主光轴的第一电子探测器探测信号电子。第二电子探测器407的第二探测层可以基本上垂直于主光轴。通过在静电或磁性元件的内表面上设置第一电子探测器,静电元件或磁性元件可以被配置为探测背散射电子。
本发明授权用于信号电子探测的系统和方法在权利要求书中公布了:1.一种电子束装置,包括: 电子源,所述电子源被配置为沿着主光轴产生初级电子束;以及 元件,包括: 第一电子探测器,所述第一电子探测器具有基本平行于所述主光轴的第一探测层,并且设置在所述元件的内表面上,并且所述第一探测层被配置为探测多个信号电子的第一部分,所述多个信号电子从所述初级电子束在样品上所形成的探测斑点产生;以及 导电层,所述导电层沉积在所述第一电子探测器的内表面的一部分上,并且所述导电层被配置为偏转所述样品上的所述初级电子束。
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