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龙图腾网获悉北京仿生界面科学未来技术研究院申请的专利一种无溶剂制备非线性光学微单晶阵列的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115613143B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211079848.9，技术领域涉及：C30B35/00；该发明授权一种无溶剂制备非线性光学微单晶阵列的方法是由赵金金;吴雨辰;江雷设计研发完成，并于2022-09-02向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种无溶剂制备非线性光学微单晶阵列的方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种无溶剂制备非线性光学微单晶阵列的方法，将基底放置在硅柱模板上部，硅柱模板的上部一侧设置原料槽，基底的一侧设置通孔，原料槽与通孔的位置对应；将有机小分子的粉末通过通孔加入原料槽中；升高温度，当温度高于有机小分子的熔点时，基底、有机小分子的熔体和硅柱的上表面组成三明治结构，熔体在毛细作用力驱动下沿着硅柱顶端流动直至铺满整个硅柱模板的表面；降低温度，当温度低于有机小分子的凝固点后，再降温至室温，打开三明治结构，在基底上得到非线性光学微单晶阵列。本发明微单晶阵列的加工精度通过硅柱的尺寸控制，精度可达1um。为阵列化制备非线性有机微晶体并将其用于非线性光学及微电子电路中提供了新思路。

本发明授权一种无溶剂制备非线性光学微单晶阵列的方法在权利要求书中公布了：1.一种无溶剂制备非线性光学微单晶阵列的方法，其特征在于：包括以下步骤： S1、将硅柱模板放置在实验台上，基底放置在所述硅柱模板上部，所述硅柱模板由光刻的方法制备且表面设置周期性重复的硅柱，所述硅柱的顶部两侧设置平台，所述平台上设置原料槽，所述基底的一侧设置通孔，所述原料槽与所述通孔的位置对应；所述硅柱顶端亲液、侧部疏液； S2、将有机小分子的粉末通过所述通孔加入所述原料槽中；所述有机小分子的分解温度大于熔点温度，所述有机小分子为以下任意一种：DAT2小分子、MLS小分子、DLS小分子和OH1小分子； S3、升高温度，当温度高于有机小分子的熔点且低于分解温度时所述有机小分子达到熔点成为流体，所述硅柱对熔融后的有机小分子流体提供了定向流动的限阈空间，熔体在毛细作用力驱动下沿着所述硅柱的顶端流动直至铺满整个硅柱模板的表面，所述基底、所述有机小分子的熔体和硅柱的上表面组成三明治结构； S4、降低温度，当温度低于所述有机小分子的凝固点后，再降温至室温，打开所述三明治结构，在所述基底上得到与硅柱顶端形状、位置均对应的非线性光学微单晶阵列，所述硅柱模板可以重复使用。

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