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龙图腾网获悉苏州大学申请的专利一种大深径比微孔参数无损测量系统及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121274855B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511844055.5，技术领域涉及：G01B11/12；该发明授权一种大深径比微孔参数无损测量系统及方法是由刘北一;张怡;王淇;杨勇;杨俊义设计研发完成，并于2025-12-09向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种大深径比微孔参数无损测量系统及方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种大深径比微孔参数无损测量系统及方法，属于光学无损测量技术领域，包括：沿光路依次设置的光源、调节组件、轴锥镜、半透半反镜和聚焦显微成像组件，以及用于承载被测微孔的位移台和数据处理组件，光源发出的准直光束经调节组件限制通光口径后，通过轴锥镜扩展焦深，再经半透半反镜透射后进入聚焦显微成像组件，最终被聚焦于微孔内，照亮其底部与侧壁，聚焦显微成像组件采集微孔的光学图像后，由位移台驱动微孔沿光轴移动完成对焦，数据处理组件根据图像信息和系统放大倍率计算微孔孔径，并通过对焦过程中的位移量确定微孔深度，从而实现大深径比微孔参数的无损精确测量。

本发明授权一种大深径比微孔参数无损测量系统及方法在权利要求书中公布了：1.一种大深径比微孔参数无损测量系统,其特征在于，包括： 光源，所述光源生成并发射出一束初始准直光束经抛物面镜反射后进入下一单元； 调节组件，包括聚焦透镜和可调光阑，所述初始准直光束经所述聚焦透镜会聚后，在所述聚焦透镜的后焦面附近形成聚焦光斑，所述可调光阑设置在所述聚焦光斑所在平面，用于限制所述聚焦光斑的出射大小； 轴锥镜，接收经可调光阑限制后的聚焦光斑以扩展所述聚焦光斑的焦深； 半透半反镜，所述半透半反镜接收来自轴锥镜的准直光束并允许其穿过自身继续前进； 聚焦显微成像组件，所述聚焦显微成像组件接收穿过半透半反镜的准直光束，并使该准直光束照亮被测微孔的上表面与底部以收集所述微孔上表面与底部的光学图像； 位移台，所述位移台用于承载并驱动所述被测微孔沿光轴方向移动； 处理组件，所述处理组件与所述聚焦显微成像组件以及位移台信号连接，并根据所获的光学图像与预设的成像放大倍率计算出被测微孔上表面与底部的孔径，同时根据位移台驱动被测微孔沿光轴方向从上表面移动至底部的对焦位移数据计算微孔深度，所述处理组件被配置为以下操作：控制所述位移台移动，使所述聚焦显微成像组件先后对所述被测微孔上表面和底部清晰对焦，并记录两次对焦时所述位移台的位置和，计算两次对焦位置之差得到微孔深度，基于预先设定的成像放大倍率，分析对焦状态下采集到的光学图像，并通过光学图像与成像放大倍率之间的关系计算出所述被测微孔上表面和底部的孔径。

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