季华实验室刘静获国家专利权
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龙图腾网获悉季华实验室申请的专利一种氮化硼坩埚和杂质释放实时监测方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121428652B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202512014440.3，技术领域涉及：C30B25/02；该发明授权一种氮化硼坩埚和杂质释放实时监测方法是由刘静;李现旭;劳婉莹;周吴静;云小淇设计研发完成，并于2025-12-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种氮化硼坩埚和杂质释放实时监测方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种氮化硼坩埚和杂质释放实时监测方法，涉及氮化硼坩埚技术领域。本发明的氮化硼坩埚包括坩埚基体，坩埚基体的内表面覆盖有阻隔层，且坩埚基体内部通过掺杂杂质捕获材料形成杂质陷阱区域，杂质陷阱区域用于捕获从坩埚基体扩散出来的杂质。本发明的氮化硼坩埚旨在解决分子束外延工艺中氮化硼坩埚长期使用过程中，内部固有微量杂质持续释放，导致外延薄膜纯度下降，影响器件性能和良率的问题，能够有效抑制杂质扩散，达到提高坩埚纯净度和外延薄膜质量的效果。
本发明授权一种氮化硼坩埚和杂质释放实时监测方法在权利要求书中公布了：1.一种氮化硼坩埚，包括坩埚基体，其特征在于，所述坩埚基体的内表面覆盖有阻隔层，且所述坩埚基体内部通过掺杂杂质捕获材料形成杂质陷阱区域，所述杂质陷阱区域用于捕获从所述坩埚基体扩散出来的杂质； 所述杂质陷阱区域在所述坩埚基体内部呈非均匀分布，且所述杂质陷阱区域集中分布于所述坩埚基体的热场低温区；所述热场低温区是根据所述坩埚基体在工作状态下的温度梯度确定的杂质扩散目标区域。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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