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龙图腾网获悉华芯程(杭州)科技有限公司申请的专利掩模图形质效协同优化方法、装置、存储介质及电子设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121477540B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202610014363.3，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权掩模图形质效协同优化方法、装置、存储介质及电子设备是由请求不公布姓名设计研发完成，并于2026-01-07向国家知识产权局提交的专利申请。

本掩模图形质效协同优化方法、装置、存储介质及电子设备在说明书摘要公布了：本申请公开了一种掩模图形质效协同优化方法、装置、存储介质及电子设备，其中，该掩模图形质效协同优化方法包括获取待优化掩模图形；针对待优化掩模图形的当前目标图形区域，提取当前目标图形区域的状态特征向量；将状态特征向量输入至协同优化策略模型，得到当前优化动作；根据当前优化动作对当前目标图形区域进行优化，并在未满足优化终止条件时，返回执行提取当前目标图形区域的状态特征向量的步骤，直至满足优化终止条件为止，得到目标优化图形；当待优化掩模图形的所有目标图形区域均优化完成时，将所有目标优化图形合并为目标掩模图形。本申请可以在确保成像质量的前提下，提升掩模图形的写入效率。

本发明授权掩模图形质效协同优化方法、装置、存储介质及电子设备在权利要求书中公布了：1.一种掩模图形质效协同优化方法，其特征在于，包括： 构建训练环境和训练集，所述训练环境包括光刻仿真模块和写入效率评估模块，所述训练集包含多样化的掩模图形样本； 初始化策略网络模型； 基于所述训练集和所述训练环境对所述策略网络模型进行迭代训练，直至所述策略网络模型收敛为止，生成协同优化策略模型； 获取待优化掩模图形； 针对所述待优化掩模图形的当前目标图形区域，对所述当前目标图形区域进行快速光刻仿真，得到局部光学仿真特征和成像质量评估特征； 对所述当前目标图形区域进行几何分析，生成几何特征； 将所述局部光学仿真特征、所述成像质量评估特征和所述几何特征拼接为状态特征向量； 将所述状态特征向量输入至协同优化策略模型，得到当前优化动作； 根据所述当前优化动作对所述当前目标图形区域进行优化，并在未满足优化终止条件时，返回执行提取所述当前目标图形区域的状态特征向量的步骤，直至满足优化终止条件为止，得到目标优化图形； 当所述待优化掩模图形的所有目标图形区域均优化完成时，将所有所述目标优化图形合并为目标掩模图形。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人华芯程(杭州)科技有限公司，其通讯地址为：310000 浙江省杭州市余杭区良渚街道网周路99号1幢22层2208室；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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