黑龙江中桂制药有限公司张树乘获国家专利权
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龙图腾网获悉黑龙江中桂制药有限公司申请的专利一种左卡尼汀印迹MOF-Au拉曼基底及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121678635B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202610195245.7，技术领域涉及：G01N21/65；该发明授权一种左卡尼汀印迹MOF-Au拉曼基底及其制备方法和应用是由张树乘;孙超;欧世宏;宫玉晶;赵涛设计研发完成，并于2026-02-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种左卡尼汀印迹MOF-Au拉曼基底及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明属于表面增强拉曼光谱检测领域，提供了一种左卡尼汀印迹MOF–Au拉曼基底及其制备方法和应用。本发明采用了双锚定位点印迹MOF负载金纳米岛的复合膜设计，通过Au–S键与Au–O–P键协同锚定机制实现金纳米岛的稳定固持，利用印迹孔道提供选择性识别位点，构建高密度纳米间隙热点增强体系。该拉曼基底具有优异的选择性富集能力、高灵敏度表面增强拉曼信号、良好的结构稳定性与信号重复性，实现了对左卡尼汀口服液中杂质的快速准确检测。本发明解决了现有基底在膜层稳定性、抗干扰能力与长期信号一致性之间难以平衡的问题,在药品质量快速检测领域具有广泛应用价值。
本发明授权一种左卡尼汀印迹MOF-Au拉曼基底及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种左卡尼汀印迹MOF-Au拉曼基底，其特征在于，包括基片以及负载于所述基片表面的复合膜； 其中，所述基片选自二氧化硅基片和硅基片中的一种； 所述复合膜包含印迹MOF以及同时通过Au-S键与Au-O-P键锚定于所述印迹MOF的金纳米岛； 所述印迹MOF包含锆元素与对苯二甲酸配体，并具有以模板分子为模板形成并经洗脱去除模板分子后得到的印迹孔道； 所述印迹MOF的比表面积为500-1500m²g，孔径为0.5-2.0nm； 所述金纳米岛的粒径为10-40nm，相邻金纳米岛的纳米间隙小于10nm； 所述复合膜中金的质量分数基于所述复合膜干基计为20-60wt%，所述复合膜在所述基片表面的面积覆盖率为40–80%。
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