株式会社SK电子田中千惠获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社SK电子申请的专利光掩模、光掩模的制造方法、显示装置的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114114827B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111051234.5，技术领域涉及：G03F1/80；该发明授权光掩模、光掩模的制造方法、显示装置的制造方法是由田中千惠;齐藤隆史;山田步实;森山久美子;福泉照夫设计研发完成，并于2021-09-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本光掩模、光掩模的制造方法、显示装置的制造方法在说明书摘要公布了：本发明的目的在于使感光性抗蚀剂从中央向外侧缓缓地倾斜。光掩模1A在透明基板上具有多个图案形成区域A和透光部7，所述多个图案形成区域A通过所述半透过膜的图案与遮光膜的图案以部分重叠的方式层叠而形成且具有规定的形状，所述透光部7未形成有图案形成区域A。在将包含图案形成区域A的中央部的规定面积的区域设为第1区域D1、将图案形成区域A的外缘部中的规定面积的区域设为第2区域D2时，相比第1区域D1内的透过率，第2区域D2内的透过率高。
本发明授权光掩模、光掩模的制造方法、显示装置的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种光掩模，其是在显示装置的制造中为了在被转印基板上形成所希望的抗蚀剂图案而使用的光掩模，其特征在于， 在透明基板上具有多个图案形成区域，所述多个图案形成区域包含至少两个彼此透过率不同的区域且具有规定形状， 所述图案形成区域通过以至少半透过膜的图案与遮光膜的图案部分重叠的方式层叠而形成， 在所述透明基板上具有未形成所述图案形成区域的透光部， 将包含所述图案形成区域的中央部的规定面积的区域设为第1区域，将在所述图案形成区域的外缘部中的规定面积的区域设为第2区域， 与所述第1区域内的透过率相比，所述第2区域内的透过率高。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人株式会社SK电子，其通讯地址为：日本国京都府京都市上京区东堀川大街一条上竖富町436号2；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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