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龙图腾网获悉北京北方华创微电子装备有限公司申请的专利边缘进气组件及半导体工艺设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115692146B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110863756.9，技术领域涉及：H01J37/305；该发明授权边缘进气组件及半导体工艺设备是由王志伟设计研发完成，并于2021-07-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本边缘进气组件及半导体工艺设备在说明书摘要公布了：本发明提供一种边缘进气组件，用于设置于工艺腔室的顶部开口上，自工艺腔室的边缘向工艺腔室内通入工艺气体，边缘进气组件包括：上环盖、中环盖、下环盖和进气管路，上环盖、中环盖和下环盖叠置于工艺腔室上，上环盖上设有至少一个进气孔，进气孔通过进气管路引入工艺气体；下环盖的内环壁上环绕设有多个喷气孔，喷气孔用于向工艺腔室内喷出工艺气体；上环盖和中环盖之间形成有至少一组匀气组合气道，每组匀气组合气道分别与一个进气孔和多个喷气孔连通，通过匀气组合气道将进气孔引入的工艺气体从多个喷气孔中排出。本发明提供的边缘进气组件能够在保证进气均匀性的同时，提高进气结构整体稳定性及维护性能。本发明还提供一种半导体工艺设备。

本发明授权边缘进气组件及半导体工艺设备在权利要求书中公布了：1.一种边缘进气组件，用于设置于工艺腔室的顶部开口上，自所述工艺腔室的边缘向所述工艺腔室内通入工艺气体，其特征在于，所述边缘进气组件包括：上环盖、中环盖、下环盖和进气管路，所述上环盖、所述中环盖和所述下环盖叠置于所述工艺腔室上，所述上环盖上设有至少一个进气孔，所述进气孔通过所述进气管路引入所述工艺气体；所述下环盖的内环壁上环绕设有多个喷气孔，所述喷气孔用于向所述工艺腔室内喷出所述工艺气体； 所述上环盖和所述中环盖之间形成有至少一组匀气组合气道，每组所述匀气组合气道分别与一个进气孔和多个所述喷气孔连通，通过所述匀气组合气道将所述进气孔引入的所述工艺气体从多个所述喷气孔中排出； 其中，每组所述匀气组合气道包括： 位于所述上环盖和所述中环盖之间的第一导流槽和多个第二导流槽，所述第一导流槽的进气端与所述进气孔连通，所述第一导流槽具有至少两个排气端，所述第一导流槽的每个排气端对应连接一个所述第二导流槽的进气端，所述第二导流槽用于对流入所述第二导流槽内的气体再次进行分流； 每个所述第二导流槽具有至少两个排气端，所述第二导流槽的排气端与所述喷气孔连通。

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