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深圳晶源信息技术有限公司周桌霖获国家专利权

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龙图腾网获悉深圳晶源信息技术有限公司申请的专利掩模版的设计图形的生成方法、装置、设备、介质及产品获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119439604B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-24发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411730267.6,技术领域涉及:G03F1/36;该发明授权掩模版的设计图形的生成方法、装置、设备、介质及产品是由周桌霖设计研发完成,并于2024-11-28向国家知识产权局提交的专利申请。

掩模版的设计图形的生成方法、装置、设备、介质及产品在说明书摘要公布了:本申请公开了一种掩模版的设计图形的生成方法、装置、设备、介质及产品,该生成方法包括:获取掩模版的待优化版图,待优化版图包括第一图形和第二图形,第一图形为待优化版图中的主设计图形,第二图形为基于主设计图形生成的多个亚分辨率辅助图形;将第一图形和第二图形输入预设的图形处理模型,基于图形处理模型对第一图形和第二图形进行图形处理,得到掩模版的设计图形,其中,图形处理包括以下至少一项:图形移动、图形缩小、图形放大、图形旋转、图形结合、图形删除、图形边处理、图形变形,能够提升在处理掩模版的图形时的效率。

本发明授权掩模版的设计图形的生成方法、装置、设备、介质及产品在权利要求书中公布了:1.一种掩模版的设计图形的生成方法,其特征在于,包括: 获取掩模版的待优化版图,所述待优化版图包括第一图形和第二图形,所述第一图形为所述待优化版图中的主设计图形,所述第二图形为基于所述主设计图形生成的多个亚分辨率辅助图形; 将所述第一图形和所述第二图形输入预设的图形处理模型,基于所述图形处理模型对所述第一图形和所述第二图形进行图形处理,得到掩模版的设计图形,其中,所述图形处理包括以下至少一项:图形移动、图形缩小、图形放大、图形旋转、图形结合、图形删除、图形边处理、图形变形; 基于所述图形处理模型对所述第一图形和所述第二图形进行图形处理,得到掩模版的设计图形,包括: 通过图形处理模型检测所述第一图形和多个第二图形均是否符合预设规则,并在所述第一图形中确定不符合所述预设规则的目标区域以及在所述第二图形中确定不符合所述预设规则的目标图形;其中,所述预设规则为掩模版图形的几何参数规则; 通过图形处理模型中的深度学习算法对所述目标区域以及所述目标图形进行图形处理,得到所述掩模版的设计图形;其中,所述图形边处理包括对图形的边缘进行边打断得到目标线段,并将所述目标线段移动至预设位置,所述图形变形包括将图形由多边形变为矩形,或者将图形的边缘由直线变为曲线。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人深圳晶源信息技术有限公司,其通讯地址为:518000 广东省深圳市福田区福保街道福保社区红棉街8号英达利科技数码园C栋401A;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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