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龙图腾网获悉东莞通华液晶有限公司申请的专利一种双面ITO蚀刻工艺获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119472161B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411583825.0，技术领域涉及：G03F7/00；该发明授权一种双面ITO蚀刻工艺是由黄卓轩设计研发完成，并于2024-11-07向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种双面ITO蚀刻工艺在说明书摘要公布了：本发明涉及蚀刻的技术领域，具体公开了一种双面ITO蚀刻工艺。包括如下步骤：背面覆盖保护层‑正面涂感光胶‑第一次曝光‑第一次显影‑正面蚀刻‑第一次清洁‑正面覆盖保护层‑背面涂感光胶‑第二次曝光‑第二次显影‑背面蚀‑第二次清洁。本发明的双面ITO蚀刻工艺，通过在基板其中一面涂覆感光胶进行曝光显影之前，在基板另一面覆盖保护层，不仅避免了二次涂覆感光胶时接触曝光显影形成的图案而造成脏污，进而在后续蚀刻时造成线路不良的情况，而且，由于基板底部首先覆盖保护层，降低了以往ITO蚀刻工艺对于工作台清洁度严格的要求，从而有效地提高了生产效率，也大幅提升了良品率。

本发明授权一种双面ITO蚀刻工艺在权利要求书中公布了：1.一种双面ITO蚀刻方法，其特征在于，包括如下步骤： S1、背面覆盖保护层：将双面带有ITO层的基板背面涂覆保护层； S2、正面涂感光胶：将基板带有保护层的一面放置在工作台上，在基板的正面涂覆感光胶； S3、第一次曝光：将涂覆有感光胶的基板移至曝光机中，正面朝上，使用掩模版和紫外光对基板正面的感光胶进行曝光； S4、第一次显影：将基板放入显影液中进行显影，基板正面经曝光的感光胶被显影液溶解，留下未被曝光的感光胶覆盖基板上的部分ITO，而未被感光胶覆盖的ITO部分将暴露出来，从而形成正面的预设图案； S5、正面蚀刻：将基板放入蚀刻液中进行蚀刻，基板正面未被感光胶覆盖的ITO部分被蚀刻掉，从而形成正面所需的ITO图案； S6、第一次清洁：将基板正面的残余感光胶以及背面的保护层去掉，清洗干净并干燥备用； S7、正面覆盖保护层：将基板上已形成有ITO图案的正面覆盖保护层； S8、背面涂感光胶：将基板上带有保护层的一面放置在工作台上，在基板的背面涂覆感光胶； S9、第二次曝光：将涂覆有感光胶的基板移至曝光机中，背面朝上，使用掩模版和紫外光对基板背面的感光胶进行曝光； S10、第二次显影：将基板放入显影液中进行显影，基板背面经曝光的感光胶被显影液溶解，留下未被曝光的感光胶覆盖基板上的部分ITO，而未被感光胶覆盖的ITO部分将暴露出来，从而形成背面的预设图案； S11、背面蚀刻：将基板放入蚀刻液中进行蚀刻，基板背面未被感光胶覆盖的ITO部分被蚀刻掉，从而形成背面所需的ITO图案； S12、第二次清洁：将基板背面的残余感光胶以及正面的保护层去掉，清洗干净并干燥备用； 所述步骤S1与步骤S7的保护层，为使用丝网印刷的方法将保护胶印刷在基板上，再经过加热固化而成，所述保护胶的印刷厚度是10~30μm； 所述步骤S6与步骤S12中，首先使用碱液去除残余感光胶，再通过胶带将保护胶粘黏剥离。

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