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龙图腾网获悉上海车仪田科技有限公司申请的专利半导体工艺腔室内气体样品的检测方法、介质和电子设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121740992B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202610236704.1，技术领域涉及：G01N27/62；该发明授权半导体工艺腔室内气体样品的检测方法、介质和电子设备是由侯晓轩;黄晓;张越设计研发完成，并于2026-02-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本半导体工艺腔室内气体样品的检测方法、介质和电子设备在说明书摘要公布了：本申请涉及一种半导体工艺腔室内气体样品的检测方法、介质和电子设备，该方法包括：采集半导体工艺腔室内的气体样品作为待分析混合样品；获取本底谱图向量B和实测谱图向量M；基于预设的标准谱图库矩阵S构建干扰因子矩阵F，其中，预设的标准谱图库矩阵S包括多个组分的标准谱图向量Sk；基于向量M、向量B、标准谱图库矩阵S以及干扰因子矩阵F，构建加权岭回归优化模型；求解该模型得到各组分分压的定量检测结果；定量检测结果用于分析半导体工艺腔室内气体组分的实时变化情况。本申请技术方案能够在复杂气体环境中有效抑制干扰、提取弱信号，根据加权岭回归优化模型，可以准确监测半导体设备腔室内气体组分的实时变化情况。

本发明授权半导体工艺腔室内气体样品的检测方法、介质和电子设备在权利要求书中公布了：1.一种半导体工艺腔室内气体样品的检测方法，其特征在于，适用于气体组分分析系统，所述气体组分分析系统包括真空样品室、质量分析器和处理单元，所述方法包括： 采集所述半导体工艺腔室内的气体样品，将所述气体样品作为待分析混合样品； 利用所述质量分析器分别获取所述真空样品室的本底质谱图，以及所述待分析混合样品在所述真空样品室中的原始质谱图，其中，所述本底质谱图和所述原始质谱图是在相同的仪器条件下采集得到的； 将所述本底质谱图和所述原始质谱图分别进行预处理，得到本底谱图向量B和实测谱图向量M； 获取预设的标准谱图库矩阵S，基于所述预设的标准谱图库矩阵S构建用于表征与所述待分析混合样品相关的多个组分之间质谱信号干扰关系的干扰因子矩阵F，其中，所述预设的标准谱图库矩阵S包括所述多个组分的标准谱图向量Sk； 基于所述实测谱图向量M、所述本底谱图向量B、所述预设的标准谱图库矩阵S以及所述干扰因子矩阵F，构建以分压向量C为求解目标、且以所述分压向量C的非负性为约束条件的加权岭回归优化模型，其中，所述分压向量C用于描述所述混合样品中各组分的分压； 求解所述加权岭回归优化模型，获得使所述加权岭回归优化模型的目标函数最小的分压向量C，将所述分压向量C作为所述待分析混合样品中各组分分压的定量检测结果，所述定量检测结果用于分析所述半导体工艺腔室内气体组分的实时变化情况。

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