三星显示有限公司孙智熙获国家专利权
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龙图腾网获悉三星显示有限公司申请的专利掩模、掩模制造方法及掩模组件获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114438443B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111247421.0，技术领域涉及：C23C14/04；该发明授权掩模、掩模制造方法及掩模组件是由孙智熙;文敏浩;文英慜;宋昇勇;李璱;任星淳设计研发完成，并于2021-10-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本掩模、掩模制造方法及掩模组件在说明书摘要公布了：在此公开了一种掩模、掩模组件和制造掩模的方法。所述掩模包括：聚合物膜，在其中限定有至少一个单元区域和至少一个外围区域，所述至少一个外围区域围绕所述至少一个单元区域；导电层，设置在聚合物膜上并且包括金属；无机层，设置在聚合物膜和导电层之间并且包括硅基无机材料；以及多个孔，穿透聚合物膜、导电层和无机层并且在平面图中与所述至少一个单元区域叠置。
本发明授权掩模、掩模制造方法及掩模组件在权利要求书中公布了：1.一种掩模，所述掩模包括： 聚合物膜，在所述聚合物膜中限定有至少一个单元区域和至少一个外围区域，所述至少一个外围区域围绕所述至少一个单元区域； 导电层，设置在所述聚合物膜上，所述导电层包括镍、金、钛、钼、氮化钛、氧化铟锡和氧化铟锌中的至少一种； 无机层，设置在所述聚合物膜与所述导电层之间，所述无机层包括氧化硅和氮化硅中的至少一种；以及 多个孔，穿透所述聚合物膜、所述导电层和所述无机层，并且在平面图中与所述至少一个单元区域叠置， 其中，所述多个孔中的每个孔具有从所述导电层到所述聚合物膜减小的平面面积， 其中，所述掩模被构造为使得所述导电层与用于支撑所述掩模的掩模框架接触， 其中，所述聚合物膜包括聚酰亚胺、聚碳酸酯、聚萘二甲酸乙二醇酯和聚对苯二甲酸乙二醇酯中的至少一种，并且 其中，所述聚合物膜的厚度在3μm至50μm的范围内。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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