镭昱光电科技(苏州)有限公司张超获国家专利权
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龙图腾网获悉镭昱光电科技(苏州)有限公司申请的专利基于POSS连接的量子点光刻胶复合材料及其制备方法与应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121471903B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202610024701.1，技术领域涉及：C09K11/02；该发明授权基于POSS连接的量子点光刻胶复合材料及其制备方法与应用是由张超;仉旭;庄永漳设计研发完成，并于2026-01-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本基于POSS连接的量子点光刻胶复合材料及其制备方法与应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于POSS连接的量子点光刻胶复合材料及其制备方法与应用。该量子点光刻胶复合材料包括：多个POSS‑量子点复合体；该POSS‑量子点复合体包括由POSS结构单体与量子点通过共价键或配位键连接形成的桥联结构，量子点均匀嵌入POSS结构单体的骨架中；或者包括由POSS结构单体与树脂单体结合形成的复合主体网络框架以及均匀嵌入其中的量子点，三者形成三元杂化网络，或者，量子点直接以分散的形式混合于所述复合主体网络框架之间。本发明的量子点光刻胶复合材料可减少量子点的迁移、团聚与相分离，提高图案的边缘解析度和分辨率，从而实现微米甚至亚微米级的三色像素级图案化。
本发明授权基于POSS连接的量子点光刻胶复合材料及其制备方法与应用在权利要求书中公布了：1.一种基于POSS连接的量子点光刻胶复合材料，其特征在于，包括多个POSS-量子点复合体；所述POSS-量子点复合体包括由功能化POSS结构单体与具有第一预修饰配体的量子点通过配位键或基团取代连接形成的桥联结构，量子点均匀嵌入POSS结构单体的骨架中并形成三维网络结构，且量子点表面形成有致密的包覆层，所述功能化POSS结构单体的至少一端具有用于与量子点表面连接的、作为配体基团的第一官能团，所述第一官能团选自巯基、羧基、氨基、膦酸基、膦氧基、硒醇基、丙烯酸酯基、环氧基中的一种或多种的组合，所述第一预修饰配体含有膦酸基、巯基、硒醇基、羧基、丙烯酸酯基、环氧基中的一种或多种的组合。
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