沈阳星膜科技有限公司郝建亮获国家专利权
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龙图腾网获悉沈阳星膜科技有限公司申请的专利一种二硅化钼-重结晶碳化硅陶瓷复合超滤膜及其制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN121513643B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-28发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202610023633.7,技术领域涉及:B01D61/14;该发明授权一种二硅化钼-重结晶碳化硅陶瓷复合超滤膜及其制备方法是由郝建亮;任霞;刘长春;任云;韩瑞荣;李斌;薛茗泽设计研发完成,并于2026-01-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种二硅化钼-重结晶碳化硅陶瓷复合超滤膜及其制备方法在说明书摘要公布了:本发明提供了一种二硅化钼‑重结晶碳化硅陶瓷复合超滤膜及其制备方法,属于碳化硅陶瓷材料技术领域。本发明将重结晶碳化硅陶瓷膜进行活化处理,得到活化膜材料;将二硅化钼粉体、硅溶胶、分散剂与溶剂混合,得到二硅化钼悬浮液;将所述二硅化钼悬浮液涂覆在所述活化膜材料的表面,干燥后得到复合膜材料;将所述复合膜材料依次进行热处理、刻蚀处理与亲水化处理,得到所述二硅化钼‑重结晶碳化硅陶瓷复合超滤膜。采用本发明方法制备的二硅化钼‑重结晶碳化硅陶瓷复合超滤膜中二硅化钼基超滤涂层的孔径为10~20nm,能够满足精细过滤要求。
本发明授权一种二硅化钼-重结晶碳化硅陶瓷复合超滤膜及其制备方法在权利要求书中公布了:1.一种二硅化钼-重结晶碳化硅陶瓷复合超滤膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤: 将重结晶碳化硅陶瓷膜进行活化处理,得到活化膜材料;所述重结晶碳化硅陶瓷膜的孔径为50~70nm;所述活化处理包括:将重结晶碳化硅陶瓷膜浸泡于硅烷偶联剂溶液中; 将二硅化钼粉体、硅溶胶、分散剂与溶剂混合,得到二硅化钼悬浮液;所述二硅化钼粉体的粒径为50~100nm,所述硅溶胶中纳米二氧化硅的含量为30~40wt%,所述二硅化钼悬浮液中二硅化钼粉体的含量为15~20wt%,硅溶胶的含量为3~5wt%; 将所述二硅化钼悬浮液涂覆在所述活化膜材料的表面,干燥后得到复合膜材料; 将所述复合膜材料依次进行热处理、刻蚀处理与亲水化处理,得到所述二硅化钼-重结晶碳化硅陶瓷复合超滤膜; 所述热处理包括依次进行第一阶段热处理、第二阶段热处理与第三阶段热处理; 所述第一阶段热处理的温度为180~200℃,保温时间为25~30min,所述第一阶段热处理在空气氛围中进行,从室温升温至所述第一阶段热处理的温度的升温速率为0.8~1℃min; 所述第二阶段热处理的温度为380~400℃,保温时间为1~2h,所述第二阶段热处理在空气氛围中进行,从所述第一阶段热处理的温度升温至所述第二阶段热处理的温度的升温速率为1~3℃min; 所述第三阶段热处理的温度为1600~1700℃,保温时间为1~2h,所述第三阶段热处理在保护氛围中进行,从所述第二阶段热处理的温度升温至所述第三阶段热处理的温度的升温速率为2~5℃min; 所述第三阶段热处理后还包括:在保护氛围中进行冷却。
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