昆山一鼎工业科技有限公司门松明珠获国家专利权
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龙图腾网获悉昆山一鼎工业科技有限公司申请的专利一种基于脱脂流体的电解阳极及其制备方法与应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121538713B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202610083332.3，技术领域涉及：C25F7/00；该发明授权一种基于脱脂流体的电解阳极及其制备方法与应用是由门松明珠;吴基石;周智翰;周爱和设计研发完成，并于2026-01-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种基于脱脂流体的电解阳极及其制备方法与应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于脱脂流体的电解阳极及其制备方法与应用，属于电解用阳极及电镀工艺技术领域。电解阳极，由下而上依次包括钛网基底、第一涂层薄膜和第二涂层薄膜；第一涂层薄膜为氧化钌薄膜；重量为钛网基底重量的0.87%~1.08%；第二涂层薄膜为氧化铑薄膜和氧化铱薄膜的混合薄膜；重量为钛网基底重量的1.47%~1.98%；第二涂层薄膜的氧化铑薄膜与第一涂层薄膜直接接触；第一涂层薄膜和第二涂层薄膜均通过高温处理形成。本发明解决了精密半导体元件表面刮痕缺陷所藏匿的微尘杂质污染物被封藏于半导体器件表面和镀层之间，导致半导体电子产品失效的重大隐患；优选复合涂层涂的网状电解阳极，提升了电解脱脂除污的功能。
本发明授权一种基于脱脂流体的电解阳极及其制备方法与应用在权利要求书中公布了：1.一种基于脱脂流体用于电镀前处理的电解阳极，其特征在于，由下而上依次包括钛网基底、第一涂层薄膜和第二涂层薄膜； 第一涂层薄膜为氧化钌薄膜；重量为钛网基底重量的0.87%~1.08%； 第二涂层薄膜为氧化铑薄膜和氧化铱薄膜的混合薄膜；重量为钛网基底重量的1.47%~1.98%； 第二涂层薄膜的氧化铑薄膜与第一涂层薄膜直接接触； 第一涂层薄膜和第二涂层薄膜均通过高温处理形成。
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