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龙图腾网获悉浙江大学申请的专利一种OPC修正中亚分辨率辅助图形布局方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116661235B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310560546.1，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权一种OPC修正中亚分辨率辅助图形布局方法是由李璇;任堃;高大为设计研发完成，并于2023-05-15向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种OPC修正中亚分辨率辅助图形布局方法在说明书摘要公布了：本发明公开一种OPC修正中亚分辨率辅助图形布局方法。数据获取模块，获取待OPC修正的版图；计算版图中孤立图形和密集图形的工艺窗口；获取SRAF初始规则，并在孤立图形中插入SRAF，通过光刻模型曝光SRAF；根据SRAF曝光结果设置SRAF宽度；更新SRAF和孤立图形之间的距离；根据更新后的工艺参数实现SRAF插入到孤立图形。本发明提出根据插入SRAF后孤立图形工艺窗口中心位置和密集图形工艺窗口中心位置的差值，实现SRAF插入参数的调节，适用于不同尺寸孤立图形SRAF的插入，具有普适性，能够提高各种尺寸孤立图形的工艺窗口，最终提高产品良率。

本发明授权一种OPC修正中亚分辨率辅助图形布局方法在权利要求书中公布了：1.一种OPC修正中亚分辨率辅助图形布局方法，其特征在于所述方法包括以下步骤： S1：获取待OPC修正的版图，对版图进行曝光，计算版图中孤立图形和密集图形的工艺窗口PW； S2：根据公式1和公式2初始化第一层亚分辨率辅助图形SRAF的宽度dBW＝dBW0和第一层亚分辨率辅助图形SRAF到孤立图形的位置dBtM＝dBtM0，且第一层亚分辨率辅助图形SRAF到孤立图形的位置dBtM满足约束条件MinSBWidth＜dBW＜1.2*MaxSBWidth；其中MinSBWidth表示光罩制造时所规定的最小宽度，MaxSBWidth表示亚分辨率辅助图形SRAF被曝光显影出的最小宽度； dBW0＝MinSBWidth+10hm式1 其中λ为光刻机的波长，k1为预设值； 按照第一层亚分辨率辅助图形SRAF的宽度dBW和位置dBtM，将第一层亚分辨率辅助图形SRAF插入到孤立图形中； S3：将插入亚分辨率辅助图形SRAF后的孤立图形导入到光刻模型中，通过光刻模型模拟孤立图形在晶圆上的曝光结果，检查已插入的亚分辨率辅助图形SRAF是否显影； S4：如果亚分辨率辅助图形SRAF显影，则根据公式3更新亚分辨率辅助图形SRAF的宽度dBW，并根据更新后的dBW将亚分辨率辅助图形SRAF重新插入到孤立图形中并返回至步骤S3； dBW＝dBW-D1式3 其中D1表示校正参数； S5：如果亚分辨率辅助图形SRAF没有显影，则继续判断密集图形工艺窗口PW和插入亚分辨率辅助图形SRAF后的孤立图形工艺窗口PW的两者中心点是否重合； S6：如果插入亚分辨率辅助图形SRAF后孤立图形的PW和密集图形的PW中心点重合，则认为当前亚分辨率辅助图形SRAF布局方案为最优方案； S7：如果插入亚分辨率辅助图形SRAF后孤立图形的PW和密集图形的PW中心点不重合，则根据公式6更新亚分辨率辅助图形SRAF的宽度dBW，然后执行步骤S8； dBW＝dBW+ΔE*c式6 其中c表示曝光能量和亚分辨率辅助图形SRAF线宽的线性关系，ΔE表示孤立图形工艺窗口PW中心能量与密集图形工艺窗口PW中心能量的差值； S8：判断更新后亚分辨率辅助图形SRAF的宽度dBW是否满足式7约束条件； MinSBWidth＜dBW＜1.2*MaxSBWidth式7 若满足，则执行步骤S10； 若小于等于MinSBWidth，则将更新亚分辨率辅助图形SRAF宽度dBW＝MinSBWidth，然后执行步骤S10； 若大于等于1.2*MaxSBWidth，则加入第二层亚分辨率辅助图形SRAF，根据公式8计算第二层亚分辨率辅助图形SRAF和第一层亚分辨率辅助图形SRAF之间的距离dBtB，又由于第二层亚分辨率辅助图形SRAF和第一层亚分辨率辅助图形SRAF宽度相同，需根据公式9更新亚分辨率辅助图形SRAF的宽度，并更新亚分辨率辅助图形SRAF宽度的约束条件为公式10，然后执行步骤S9； dBtB＝dBtM-D2式8 其中D2表示校正参数； dBW＝dBW+θ*ΔE*c式9 其中θ为校正预设值； S9：判断更新后亚分辨率辅助图形SRAF的宽度dBW是否满足约束条件公式10， MinSBWidth＜dBW＜0.72*MaxSBWidth式10 若是则执行步骤S10； 若否则根据公式11更新亚分辨率辅助图形SRAF的宽度为 dBW＝m*0.72*MaxSBWidth式11 其中m表示预设值，0＜m＜1，然后执行步骤S10； S10：根据公式12更新第一层亚分辨率辅助图形SRAF和孤立图形之间的距离dBtM，然后执行步骤S11； dBtM＝ΔF2*a+ΔF*b+dBtM式12 其中ΔF表示插入亚分辨率辅助图形SRAF后孤立图形工艺窗口PW中心焦深与密集图形工艺窗口PW中心焦深的差值；a、b均表示校正预设值； S11：根据更新后的工艺参数dBW、dBtB、dBtM实现亚分辨率辅助图形SRAF插入到孤立图形，然后返回至步骤S3。

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