买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

龙图腾网获悉中国人民解放军陆军装甲兵学院申请的专利一种低摩擦高耐磨固体润滑薄膜及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116855884B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310916330.4，技术领域涉及：C23C14/02；该发明授权一种低摩擦高耐磨固体润滑薄膜及其制备方法和应用是由马国政;李国禄;石佳东;王海斗;邢志国;何涛;李振;刘云帆设计研发完成，并于2023-07-25向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种低摩擦高耐磨固体润滑薄膜及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明提供了一种低摩擦高耐磨固体润滑薄膜，包括自下至上依次设置的基体、过渡层和功能层；所述过渡层自下至上依次包括底层、中间层和上层；所述底层的组成为Ta；所述中间层的组成为Ta和MoS2；所述上层的组成为Ta、Pb和MoS2；所述功能层的组成为Ta、Pb和MoS2。本发明过渡层采用梯度结构，通过Ta、Ta‑MoS2、Ta‑Pb‑MoS2逐层的改变热膨胀系数，更有利于降低应力集中，从而避免固体润滑薄膜在基体上开裂与剥落，提高了与基体的结合强度；功能层具有减摩耐磨功能，以MoS2为基，结合了Ta金属的高硬度，提高了耐磨性，软金属Pb进一步降低了摩擦系数，极大提高了固体润滑薄膜的服役性能与服役寿命。

本发明授权一种低摩擦高耐磨固体润滑薄膜及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种低摩擦高耐磨固体润滑薄膜，包括自下至上依次设置的基体、过渡层和功能层； 所述过渡层自下至上依次包括底层、中间层和上层； 所述底层的组成为Ta；所述中间层的组成为Ta和MoS2；所述上层的组成为Ta、Pb和MoS2； 所述功能层的组成为Ta、Pb和MoS2； 所述功能层的厚度为1.0~1.5μm；以功能层中Ta、Pb和Mo的总原子百分比为100%计，所述功能层中Ta为5%~15%，Pb为15%~25%，Mo为65%~75%； 所述低摩擦高耐磨固体润滑薄膜的制备方法，包括如下步骤： 1采用磁控溅射法在基体的表面沉积过渡层； 2采用磁控溅射法在过渡层上沉积功能层，得到低摩擦高耐磨固体润滑薄膜； 步骤1中采用磁控溅射法在基体的表面沉积过渡层的操作包括如下步骤： 1采用磁控溅射法在基体的表面沉积底层；所述磁控溅射法的工艺参数为：惰性气体流量10~20sccm，负偏压从-250V线性降低到-60V，Ta靶材的电流从1.5A线性升高到3.0A，线性变化的时间5~10min，溅射时间5~10min； 2采用磁控溅射法在底层的表面沉积中间层；所述磁控溅射法的工艺参数为：惰性气体流量10~20sccm，负偏压-60V，Ta靶材的电流从3.0A线性降低到2.5A，MoS2靶材的电流从0.2A线性升高到0.4A，线性变化的时间5~10min，溅射时间5~10min； 3采用磁控溅射法在中间层的表面沉积上层，得到过渡层；所述磁控溅射法的工艺参数为：惰性气体流量10~20sccm，负偏压-50V~-60V，Ta靶材的电流从2.5A线性降低到0.2A，MoS2靶材的电流从0.4A线性升高到0.8A，Pb靶材的电流从0A线性升高到0.2A，线性变化的时间为5~10min，溅射时间5~10min； 所述步骤2中采用磁控溅射法沉积功能层的工艺参数为：惰性气体流量15sccm，基体负偏压-60V，Ta靶材的电流0.2A，MoS2靶材的电流为1.0A，Pb靶材的电流为0.2A，溅射时间200min。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人中国人民解放军陆军装甲兵学院，其通讯地址为：100072 北京市丰台区杜家坎21号院；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。