安徽熙泰智能科技有限公司刘成元获国家专利权
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龙图腾网获悉安徽熙泰智能科技有限公司申请的专利一种抗磁掩膜板及其制备方法与气相沉积设备获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN117364018B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-01发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202311538728.5,技术领域涉及:C23C14/04;该发明授权一种抗磁掩膜板及其制备方法与气相沉积设备是由刘成元;李雪原;李维维;李文连;周浪设计研发完成,并于2023-11-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种抗磁掩膜板及其制备方法与气相沉积设备在说明书摘要公布了:一种抗磁掩膜板及其制备方法与气相沉积设备,属于气相沉积技术领域,其中的抗磁掩膜板,包括由低热膨胀材料和抗磁材料制备的单层或多层结构的复合膜层,所述复合膜层的像素区上均布设置有像素开口,本发明的有益效果是,本发明提供的掩膜板掩结构简单,制作成本低,可通过抗磁的作用贴紧衬底,可有效避免掩膜板的下垂,保证了衬底蒸镀的质量。
本发明授权一种抗磁掩膜板及其制备方法与气相沉积设备在权利要求书中公布了:1.一种抗磁掩膜板,其特征在于,包括由低热膨胀材料和抗磁材料制备的单层或多层结构的复合膜层,所述复合膜层的像素区上均布设置有像素开口; 所述低热膨胀材料包括线性热膨胀系数小于2×10-6K的玻璃材质或聚合物;所述抗磁材料包括石墨、石墨烯及其与黏土、金属、聚合物和有机小分子的混合物。
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