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芯和半导体科技(上海)股份有限公司蒋历国获国家专利权

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龙图腾网获悉芯和半导体科技(上海)股份有限公司申请的专利版图过孔合并方法、装置、计算机设备及存储介质获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN121683678B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-01发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202610171611.5,技术领域涉及:G06F30/392;该发明授权版图过孔合并方法、装置、计算机设备及存储介质是由蒋历国;代文亮;堵云竹;郭亮;罗彬设计研发完成,并于2026-02-06向国家知识产权局提交的专利申请。

版图过孔合并方法、装置、计算机设备及存储介质在说明书摘要公布了:本申请公开了一种版图过孔合并方法、装置、计算机设备及存储介质,方法包括:遍历版图中的过孔,以提取每个过孔的外包围盒的几何坐标;基于所提取的坐标,通过扫描线法在竖直方向上进行扫描,以合并间距小于预设合并距离的过孔,生成一个或多个竖直延伸的第一合并矩形,通过扫描线法在水平方向上进行扫描,以合并间距小于预设合并距离的过孔,生成一个或多个水平延伸的第二合并矩形;基于组内矩形的空间关系,提取构成合并图形的边界边;基于边界边,构建连接关系,得到内外轮廓;基于内外轮廓,生成过孔合并图形。本申请实施例避免了复杂的几何图形布尔操作并精确识别过孔的间隙,支持先进封装版图的过孔合并。

本发明授权版图过孔合并方法、装置、计算机设备及存储介质在权利要求书中公布了:1.一种版图过孔合并方法,其特征在于,包括: 遍历版图中的过孔,以提取每个过孔的外包围盒的几何坐标; 基于所提取的坐标,通过扫描线法在竖直方向上进行扫描,以合并间距小于预设合并距离的过孔,生成一个或多个竖直延伸的第一合并矩形,通过扫描线法在水平方向上进行扫描,以合并间距小于预设合并距离的过孔,生成一个或多个水平延伸的第二合并矩形; 基于组内矩形的空间关系,提取构成合并图形的边界边; 基于边界边,构建连接关系,得到内外轮廓; 基于内外轮廓,生成过孔合并图形; 所述基于组内矩形的空间关系,提取构成合并图形的边界边,包括: 判断第一合并矩形和第二合并矩形是否存在重叠,若存在重叠,则判定对应的两个矩形相互连接并记录其连接边,将所有通过连接关系关联的矩形归入同一组; 对于分组后的第一合并矩形,识别其左边和右边上未与其他矩形连接的部分,将其作为独立的左边线段或右边线段提取出来,将顶侧边和底侧边作为独立的顶侧线段和底侧线段提取出来; 对于分组后的第二合并矩形,识别其顶边和底边上未与其他矩形连接的部分,将其作为独立的顶边线段或底边线段提取出来,将左侧边和右侧边作为独立的左侧线段和右侧线段提取出来; 其中由端点构成的线段为边界边。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人芯和半导体科技(上海)股份有限公司,其通讯地址为:201210 上海市浦东新区自由贸易试验区纳贤路60弄5号4层01室;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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