江苏旭宇腾半导体科技有限公司顾泉获国家专利权
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龙图腾网获悉江苏旭宇腾半导体科技有限公司申请的专利一种物理气相沉积真空腔室结构获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224186250U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-01发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202521021603.X，技术领域涉及：C23C14/34；该实用新型一种物理气相沉积真空腔室结构是由顾泉设计研发完成，并于2025-05-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种物理气相沉积真空腔室结构在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种物理气相沉积真空腔室结构，包括沉积机壳，沉积机壳内壁顶端的中部安装有溅射组件，沉积机壳一侧的顶端固定连通有进气管道，沉积机壳另一侧的底端固定连通有真空组件，沉积机壳内壁的两侧均转动连接有固定组件，沉积机壳内壁的底端固定安装有靶射组件，溅射组件包括转轴和溅射台，转轴的底端与溅射台的顶端固定连接，溅射台的底端固定安装有溅射件，本实用新型一种物理气相沉积真空腔室结构，通过设置固定组件，夹持气缸从一侧推动活动块，活动块从两侧推动夹板相对于夹持架发生角度偏转，两个夹板相互配合从产品的两侧进行夹持固定，伺服电机带动固定组件转动，便于产品完成多角度覆膜操作，实用性高。
本实用新型一种物理气相沉积真空腔室结构在权利要求书中公布了：1.一种物理气相沉积真空腔室结构，包括沉积机壳1，其特征在于：所述沉积机壳1内壁顶端的中部安装有溅射组件6，所述沉积机壳1一侧的顶端固定连通有进气管道3，所述沉积机壳1另一侧的底端固定连通有真空组件8，所述沉积机壳1内壁的两侧均转动连接有固定组件10，所述沉积机壳1内壁的底端固定安装有靶射组件9，所述溅射组件6包括转轴63和溅射台65，所述转轴63的底端与溅射台65的顶端固定连接，所述溅射台65的底端固定安装有溅射件66，所述靶射组件9包括两个立板92和靶台95，两个所述立板92之间转动连接有丝杆94，所述丝杆94的中部螺纹连接有与沉积机壳1滑动连接的位移块93，所述位移块93的顶端与靶台95的底端固定连接，所述靶台95的顶端固定安装有靶件96。
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