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龙图腾网获悉北京承宽真空科技有限公司申请的专利一种具有辅助靶的磁控溅射镀膜装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224186252U 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-01发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202521130560.9，技术领域涉及：C23C14/35；该实用新型一种具有辅助靶的磁控溅射镀膜装置是由贾鸿儒;秦宏喜;周艳军;张继兴设计研发完成，并于2025-06-04向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种具有辅助靶的磁控溅射镀膜装置在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种具有辅助靶的磁控溅射镀膜装置，涉及磁控溅射镀膜领域，包括真空室，真空室上设置有若干换料机构，换料机构包括固定支撑组件，固定支撑组件上滑动有平移连动组件，平移连动组件包括平移支架，平移连动组件上滑动连接有升降转动组件，升降转动组件包括升降板，升降板底部固定有第二齿条，升降板顶部转动连接有转动支架，转动支架前后固定有若干柱形靶材，平移支架上固定连接有导向组件。有益效果在于：平移支架向外移动，连动部件驱动第二齿条升起带动柱形靶材与磁辊脱离配合，转动支架继续上升，导向组件驱动柱形靶材转180°到磁辊上方，平移支架复位带动柱形靶材与磁辊配合，如此快速完成了更换工作。

本实用新型一种具有辅助靶的磁控溅射镀膜装置在权利要求书中公布了：1.一种具有辅助靶的磁控溅射镀膜装置，包括真空室101，所述真空室101前侧转动连接有翻转仓门102，所述翻转仓门102上设置有转动夹持机构103，其特征在于：所述真空室101上设置有若干换料机构，所述换料机构包括与所述真空室101固定连接的固定支撑组件，所述固定支撑组件上滑动有平移连动组件，所述平移连动组件包括平移支架401，所述平移支架401底部安装有控制器403，所述控制器403后端顶部固定连接有磁辊404，所述平移连动组件上滑动连接有升降转动组件，所述升降转动组件包括升降板305，所述升降板305底部固定连接有两个对称设置的第二齿条306，所述第二齿条306与所述平移支架401滑动连接，所述平移支架401上安装有两个用于驱动所述第二齿条306升降的连动部件，所述升降板305顶部转动连接有转动支架301，所述转动支架301前后固定连接有若干对称设置的靶材夹持器302，所述靶材夹持器302上固定连接有柱形靶材303，所述转动支架301底部固定连接有换向杆304，所述平移支架401上固定连接有用于驱动所述换向杆304转动的导向组件。

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