福建瑞升电子科技有限公司牛继恩获国家专利权
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龙图腾网获悉福建瑞升电子科技有限公司申请的专利一种铜膜高效均匀沉积的真空溅射装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224186253U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-01发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202521135424.9，技术领域涉及：C23C14/35；该实用新型一种铜膜高效均匀沉积的真空溅射装置是由牛继恩;陈甲天;姜学文;吴培峰;曹文强设计研发完成，并于2025-06-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种铜膜高效均匀沉积的真空溅射装置在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种铜膜高效均匀沉积的真空溅射装置，涉及镀膜机技术领域，包括主控台，主控台内部设有电子控制设备，主控台顶面中部设有镀膜箱，镀膜箱前端面铰接有箱门，镀膜箱内设有镀膜机构，镀膜箱和箱门之间设有连接结构，镀膜机构包括调节组件、阳极组件、阴极组件和磁控组件；本实用新型通过调剂组件和阴极组件的配合，便于自由调节电极之间的距离，从而取保镀膜的均匀，提高了镀膜均匀性，实现了均匀镀膜的能力；再通过阴极组件和磁控组件的配合，便于最大程度约束等离子体的溅射方向，从而提高镀膜效率，实现了高效镀膜的能力；最终解决了现有设备镀膜时电极距离不合适或是等离子体逸散严重导致的镀膜质量低的问题。
本实用新型一种铜膜高效均匀沉积的真空溅射装置在权利要求书中公布了：1.一种铜膜高效均匀沉积的真空溅射装置，包括主控台1，其特征在于：所述主控台1内部设有电子控制设备，所述主控台1顶面中部设有镀膜箱2，所述镀膜箱2前端面铰接有箱门3，所述镀膜箱2内设有镀膜机构，所述镀膜箱2和箱门3之间设有连接结构，所述镀膜机构包括调节组件、阳极组件、阴极组件和磁控组件。
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