东进世美肯株式会社安慈恩获国家专利权
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龙图腾网获悉东进世美肯株式会社申请的专利新型覆盖层用化合物以及包含所述覆盖层用化合物的有机发光元件获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114573533B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111449736.3，技术领域涉及：C07D307/77；该发明授权新型覆盖层用化合物以及包含所述覆盖层用化合物的有机发光元件是由安慈恩;安贤哲;咸昊完;金熙宙;金东骏;闵丙哲;韩政佑;权桐热;李成圭设计研发完成，并于2021-11-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本新型覆盖层用化合物以及包含所述覆盖层用化合物的有机发光元件在说明书摘要公布了：本发明提供一种以下述化学式1表示的覆盖层用化合物以及包含所述化合物的有机发光元件：
本发明授权新型覆盖层用化合物以及包含所述覆盖层用化合物的有机发光元件在权利要求书中公布了：1.一种以下述化学式1表示的覆盖层用化合物： 化学式1 在所述化学式1中， Y为O或S， A环以及B环各自独立地任一个为苯基，另一个为萘基， X各自独立地为CR或N， R为氢、或取代或未取代的C1～C10的烷基， Ar1以及Ar2各自独立地为取代或未取代的C6～C50的芳基、或取代或未取代的C2～C50的杂芳基， L、L1以及L2各自独立地为直接结合、亚苯基、亚联苯基或亚吡啶基，且被氘取代或未取代， 上述被取代时，取代基为氘、卤素、氰基、硝基、腈基、C1~C30的烷基、C1~C30的烷氧基、C1~C30的硫醚基、C6~C50的芳基、或C2~C50的杂芳基。
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