大立光电股份有限公司蔡温祐获国家专利权
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龙图腾网获悉大立光电股份有限公司申请的专利成像光学镜头、取像装置及电子装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115728846B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211061380.0，技术领域涉及：G02B1/115；该发明授权成像光学镜头、取像装置及电子装置是由蔡温祐;张建邦;蔡承谕;邓钧鸿;朱国强设计研发完成，并于2022-09-01向国家知识产权局提交的专利申请。
本成像光学镜头、取像装置及电子装置在说明书摘要公布了：本揭示内容提供一种成像光学镜头、取像装置及电子装置，成像光学镜头包含至少一光学镜片，光学镜片包含一抗反射膜，抗反射膜包含一高低折射率膜与一渐变折射率膜，高低折射率膜配置在光学镜片与渐变折射率膜之间。高低折射率膜包含至少一高折射率膜层与至少一低折射率膜层，高折射率膜层与低折射率膜层交替堆叠配置。渐变折射率膜包含多个孔洞，远离光学镜片的孔洞相对大于靠近光学镜片的孔洞。通过在成像光学镜头表面制镀均匀致密的抗反射膜，使光学镜片具显著抗氧化能力，有助于达到广域波长范围的抗反射效果，以满足需具有高成像品质的成像光学镜头。
本发明授权成像光学镜头、取像装置及电子装置在权利要求书中公布了：1.一种成像光学镜头，其特征在于，包含： 至少一光学镜片； 其中，该光学镜片的材质为玻璃，该光学镜片包含一抗反射膜，该抗反射膜位于该光学镜片的至少一表面； 其中，该抗反射膜包含一高低折射率膜与一渐变折射率膜，该高低折射率膜配置在该光学镜片与该渐变折射率膜之间； 其中，该高低折射率膜包含至少一高折射率膜层与至少一低折射率膜层，该高折射率膜层与该低折射率膜层交替堆叠配置，该低折射率膜层接触该光学镜片，且该低折射率膜层的主要材质为氧化铝； 其中，该渐变折射率膜包含多个孔洞，远离该光学镜片的所述多个孔洞相对大于靠近该光学镜片的所述多个孔洞，且该渐变折射率膜的主要材质为金属氧化物； 其中，位于该光学镜片中心处的该抗反射膜的总厚度为Tc，位于该光学镜片周边处的该抗反射膜的总厚度为Tp，其满足下列条件： 0％|Tc-Tp|Tc≤15.0％。
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