自适应等离子体技术公司崔佑荧获国家专利权
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龙图腾网获悉自适应等离子体技术公司申请的专利多个加热区域结构的静电卡盘获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115775762B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111047523.8，技术领域涉及：H10P72/72；该发明授权多个加热区域结构的静电卡盘是由崔佑荧;李相雨设计研发完成，并于2021-09-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本多个加热区域结构的静电卡盘在说明书摘要公布了：本发明涉及一种多个加热区域结构的静电卡盘。多个加热结构的静电卡盘包括：多个微型多加热器区域11_1至11_N，每个微型多加热器区域可以通过加热元件单独加热控制；开关模块13，包括连接到多个微型多加热器区域11_1至11_N中每一个的单独开关装置14_1至14_N；以及开关控制模块15，控制开关模块13的操作，其中固定于静电卡盘的晶片的不同部分由每个微型多加热器区域11_1至11_N独立加热。
本发明授权多个加热区域结构的静电卡盘在权利要求书中公布了：1.一种多个加热区域结构的静电卡盘，其特征在于，包括： 多个微型多加热器区域11_1至11_N，每个微型多加热器区域通过加热元件单独加热控制； 开关模块13，包括连接到多个微型多加热器区域11_1至11_N中每一个的单独开关装置14_1至14_N；以及 开关控制模块15，控制开关模块13的操作， 固定于静电卡盘的晶片的不同部分由每个微型多加热器区域11_1至11_N独立加热， 所述静电卡盘进一步包括AC加热器区域21_1至21_L，设置在形成于所述微型多加热器区域11_1至11_N的上方的陶瓷层42的内部， 由铝材料制成且在内部形成有冷却管线CL的操作主体41的上部形成有凹槽或容纳空间，从加热调节区域RA的底面分离设置微型多区域板43，所述加热调节区域RA形成为通过分隔壁411向操作主体41的上方突出的结构， 所述微型多加热器区域11_1至11_N设置在所述微型多区域板43的上表面，在微型多区域板43的下表面设置有传递每个多加热器区域11_1至11_N的控制信息的光通信电路模块44、驱动模块45以及电源电路模块46。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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