株式会社理光八田周子获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社理光申请的专利接触构件、干燥设备和印刷设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117203062B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202280028734.3，技术领域涉及：B41J11/00；该发明授权接触构件、干燥设备和印刷设备是由八田周子;水谷佑树设计研发完成，并于2022-04-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本接触构件、干燥设备和印刷设备在说明书摘要公布了：目的提供一种接触构件，即使在接触构件和被接触构件以彼此接触的方式长时间使用的情况下，该接触构件也防止源自液体组合物的组分从被接触构件转移到接触构件。实现目的的机构配置为接触施加有液体组合物的被接触构件的接触构件包括被配置为与被接触构件接触的表面层A，其中表面层A包括含有耐酸硫酸铝的支撑层，表面层A的均方根高度Sq为1.0μm或更大，并且表面层A的正交线粗糙度比为0.7或更大。
本发明授权接触构件、干燥设备和印刷设备在权利要求书中公布了：1.一种接触构件，其配置为接触施加有液体组合物的被接触构件，所述接触构件包括： 表面层A，其配置为接触所述被接触构件，其中 所述表面层A包括含有耐酸硫酸铝的支撑层， 所述表面层A的均方根高度Sq为4.75μm或更大且10.0μm或更小， 所述表面层A的正交线粗糙度比为0.74或更大且0.82或更小， 所述表面层A中的元素氟的量为5.0atm％或更大， 所述表面层A与所述被接触构件彼此接触的面积相对于所述表面层A的面积的比率为16.0％或更大且34.0％或更小，并且 所述支撑层的平均厚度为20μm或更大且31μm或更小。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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