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龙图腾网获悉华中科技大学申请的专利高通量X射线多能谱探测系统和探测方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118986374B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410950125.4，技术领域涉及：A61B6/00；该发明授权高通量X射线多能谱探测系统和探测方法是由张清立;牛广达;逄锦聪;刘雨廷;徐凌;郑志平;周英;唐江设计研发完成，并于2024-07-16向国家知识产权局提交的专利申请。

本高通量X射线多能谱探测系统和探测方法在说明书摘要公布了：本申请涉及X射线探测技术领域，具体涉及一种高通量X射线多能谱探测系统和探测方法，探测方法包括制备n种K吸收限不同的滤波片Zi，i∈1,n，n≥15；入射X射线准直后经过每一滤波片Zi衰减后均被探测得到电信号Si，Si＝∫η×[φE×CiE]dE，Emin,Emax；对电信号Si做离散化处理而后求解最小二乘解，得到入射X射线能谱。本申请基于能量积分的探测原理，通过不同线性衰减系数的滤波片的数学组合，实现对于高通量X射线能谱的灵活调制与解调，兼顾探测成本同时得到精细分辨率的X射线能谱。

本发明授权高通量X射线多能谱探测系统和探测方法在权利要求书中公布了：1.高通量X射线多能谱探测方法，其特征在于，包括以下步骤： 制备n种K吸收限不同的滤波片Zi，i∈1,n，n≥15； 入射X射线准直后经过每一滤波片Zi衰减； 衰减后均被探测得到电信号Si，Si=∫η×[E×CiE]dE，Emin,Emax，式中，η为比例系数，E为入射X射线的能谱，Emin,Emax为入射X射线的能量范围，，其中，E为入射X射线的能量，μiE为滤波片Zi的衰减系数，di为滤波片Zi的厚度； 在Emin,Emax能量范围内，n种滤波片基于K吸收限将该能量范围划分为m个能量窗Wj，j∈1,m； 滤波片Zi在每个能量窗Wj内的CiE记为Cij，E在每个能量窗内记为j，对电信号Si做离散化处理得； 基于式，求解最小二乘解，得到入射X射线的能谱1、2、......、j、......、n、m； 基于入射X射线的分能谱1、2、......、j、......、n、m得入射X射线能谱； 其中，滤波片Zi的制作材料选自原子序数从40到83的元素，且n种滤波片Zi的K吸收限在Emin,Emax能量范围内趋于等间隔分布。

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