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龙图腾网获悉南京理工大学申请的专利基于非均匀稀疏采样的纵向大尺度三维形貌测量方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120274670B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510391342.9，技术领域涉及：G01B11/24；该发明授权基于非均匀稀疏采样的纵向大尺度三维形貌测量方法是由高志山;匡俊豪;郭珍艳;袁群;罗涛;喻琪琪;李金宇设计研发完成，并于2025-03-31向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于非均匀稀疏采样的纵向大尺度三维形貌测量方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于非均匀稀疏采样的纵向大尺度三维形貌测量方法，属于光学检测领域，满足了毫米级纵向大尺寸微结构快速检测的需求。首先，通过微米级非均匀间隔采样大幅降低干涉图数量。在此基础上，通过线性插值和稀疏重构，将非均匀稀疏采样干涉信号重构为均匀干涉信号。最终，利用采样包络算法精确复原样品的三维形貌信息。本发明通过高速采集提升干涉图获取效率与降低干涉图处理数据量，在有效提高测量速度的同时，测量方法复原误差小于百分之一。本发明适用于在半导体制造、光学加工、机械加工等领域中实现对纵向大尺度微结构样品的三维形貌快速检测。

本发明授权基于非均匀稀疏采样的纵向大尺度三维形貌测量方法在权利要求书中公布了：1.一种基于非均匀稀疏采样的纵向大尺度三维形貌测量方法，其特征在于，步骤如下： 步骤1、采用Linnik型干涉光路与激光测距光路共同检测样品，上述两套光路由同一个电机控制，进行同步运动，电机发射信号同步触发两套光路；近红外干涉光路利用CCD相机采集样品的干涉图，激光测距光路计算干涉图的位置信息；设CCD相机的靶面共有个像素点； 步骤2、确定电机扫描速度为、相机帧率为，依据在光源的相干长度内至少有个采样点的要求，结合光源相干长度公式计算出此时的光源的带宽，并在光源的出光口处放置匹配的滤光片； 步骤3、CCD相机在扫描移动中进行稀疏采样，得到第一干涉信号强度矩阵，其大小为，激光测距光路同步计算相应采样点之间的距离，得到第一位置信息矩阵，其大小为； 步骤4、对第一位置信息矩阵做线性插值，得到第二位置信息矩阵，大小为，H1表示线性插值后采样点的个数，结合第一干涉信号强度矩阵和第二位置信息矩阵进行二次插值后，得到第三干涉信号强度矩阵和第三位置信息矩阵，其大小分别为和； 步骤5、结合第三干涉信号强度矩阵和第三位置信息矩阵，并依据带通采样定理和干涉原理推导出稀疏重构公式，得到第四干涉信号强度矩阵和第四位置信息矩阵；其中第四干涉信号强度矩阵的大小为，第四位置信息矩阵的大小为，H2表示稀疏信号还原后采样点的个数； 步骤6、结合第四干涉信号强度矩阵和第四位置信息矩阵，按照采样包络定理，求取采样包络数据矩阵，大小为；对采样包络数据矩阵使用质心法得到形貌数据矩阵，大小为。

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