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龙图腾网获悉武汉中导光电设备有限公司申请的专利AOI设备光强曲线生成方法、系统、设备及存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121632329B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202610165489.0，技术领域涉及：G01J1/16；该发明授权AOI设备光强曲线生成方法、系统、设备及存储介质是由李波;胡杰;王建存;叶艳真设计研发完成，并于2026-02-05向国家知识产权局提交的专利申请。

本AOI设备光强曲线生成方法、系统、设备及存储介质在说明书摘要公布了：一种AOI设备光强曲线生成方法、系统、设备及存储介质，涉及光强曲线生成技术领域，包括在随机选取的波长滤光片、置于第一档位和第二档位的光学衰减片及以第一预设步长增大的照明光源输出功率的光学场景，基于不同照明光源输出功率下光功率值确定第一基准曲线和第二基准曲线；根据第一基准曲线和第二基准曲线确定目标基准曲线；在不同预设目标物镜及其对应的目标波长滤光片下的参考硅片、置于第一档位或第二档位的光学衰减片及以第二预设步长增大的照明光源输出功率的光学场景，基于参考硅片图像灰度值、目标基准曲线和预设系数确定光强曲线顶点值；根据光强曲线顶点值和目标基准曲线确定目标光强曲线。本申请能高效地生成通用性强的光强曲线。

本发明授权AOI设备光强曲线生成方法、系统、设备及存储介质在权利要求书中公布了：1.一种AOI设备光强曲线生成方法，其特征在于，所述AOI设备光强曲线生成方法包括： 在第一光学场景下，基于不同照明光源输出功率下的所有光功率值分别确定出与第一档位对应的第一基准曲线以及与第二档位对应的第二基准曲线，所述第一光学场景包括随机选取的波长滤光片、置于第一档位和第二档位的光学衰减片以及以第一预设步长增大的照明光源输出功率，所述第一档位的衰减程度低于所述第二档位的衰减程度； 根据第一基准曲线和第二基准曲线确定出目标基准曲线； 在第二光学场景下，基于参考硅片的图像灰度值、目标基准曲线和预设系数确定出光强曲线顶点值，所述第二光学场景包括不同预设目标物镜及其对应的目标波长滤光片下的参考硅片、置于第一档位或第二档位的光学衰减片以及以第二预设步长增大的照明光源输出功率； 根据光强曲线顶点值和目标基准曲线确定出目标光强曲线； 其中，所述根据第一基准曲线和第二基准曲线确定出目标基准曲线，包括： 在第一基准曲线上选取第一光功率值，所述第一光功率值大于第二基准曲线顶点对应的光功率值； 基于第二基准曲线中低于第一光功率值对应的曲线和第一基准曲线中高于第一光功率值对应的曲线确定出目标基准曲线； 所述根据光强曲线顶点值和目标基准曲线确定出目标光强曲线，包括： 将目标基准曲线中低于光强曲线顶点值对应的曲线作为目标光强曲线。

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