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最新专利技术
  • 改善芯片曝光的方法和大尺寸芯片曝光方法
    改善芯片曝光的方法和大尺寸芯片曝光方法_长电科技管理有限公司_202511915346.9
    本发明提供了一种改善芯片曝光的方法和大尺寸芯片曝光方法。通过在形成分割芯片的切割线时，通过选择所述切割线的路径为直线或者折线，简化图形的拉伸计算；通过控制所述切割线的宽度大于或者等于切割宽度阈值，确保图形在切割和拉伸后仍能保持良好的形状和尺...
    2026-05-01
  • 晶圆的量测点的确定方法、电子设备和存储介质
    晶圆的量测点的确定方法、电子设备和存储介质_苏州镁伽科技有限公司_202511966155.5
    本发明实施例提供了一种晶圆的量测点的确定方法、电子设备和存储介质。晶圆的量测点的确定方法包括对晶圆的最初量测点执行一次或多次剔除操作，直到符合第一预设要求时结束，并将最初量测点中的在结束时所删除的所有量测点以外的量测点确定为最终量测点，剔除...
    2026-05-01
  • 用于晶圆量测的成像配置确定方法、装置和电子设备
    用于晶圆量测的成像配置确定方法、装置和电子设备_苏州镁伽科技有限公司_202511966195.X
    本发明实施例提供了一种用于晶圆量测的成像配置确定方法、装置和电子设备。用于晶圆量测的成像配置确定方法包括：获取目标晶圆的目标成像属性信息，目标成像属性信息包括：目标工艺参数信息、目标量测点的位置信息和目标基础成像信息；将目标成像属性信息输入...
    2026-05-01
  • 晶圆的套刻方法、装置、电子设备和存储介质
    晶圆的套刻方法、装置、电子设备和存储介质_苏州镁伽科技有限公司_202511970340.1
    本发明实施例提供了一种晶圆的套刻方法、装置、电子设备和存储介质。晶圆的套刻方法包括：利用经训练的量测点预测模型，确定目标晶圆的多个目标量测点的位置信息，进而确定套刻补偿量；基于套刻补偿量进行目标晶圆的套刻操作；基于多个目标量测点的位置信息，...
    2026-05-01
  • 一种光罩夹持机构
    一种光罩夹持机构_江苏启微半导体设备有限公司_202511990428.X
    本发明公开了半导体光罩夹持领域的一种光罩夹持机构，该机构包括具有旋转及位移输出端的电动旋转夹爪、对称设置的延长杆以及带有V型卡槽的定位爪，至少一个定位爪通过力度控制单元与延长杆连接，力度控制单元被配置为，在带动光罩翻转的过程中，在保持定位爪...
    2026-05-01
  • 一种刻蚀负载效应模型的建立方法、产品及设备
    一种刻蚀负载效应模型的建立方法、产品及设备_深圳晶源信息技术有限公司_202610008505.5
    提供一种刻蚀负载效应模型的建立方法、产品及设备。该刻蚀负载效应模型的建立方法包括：获取刻蚀后的版图中多个不同区域的相同图形单元的图形轮廓，并选取其中符合负载效应要求的一图形单元的图形轮廓作为目标图形轮廓；分别将其他图形单元的图形轮廓与目标图...
    2026-05-01
  • 一种提升油墨附着力的COF卷带设计
    一种提升油墨附着力的COF卷带设计_合肥颀材科技有限公司_202610115023.X
    本发明公开了一种提升油墨附着力的COF卷带设计，包括如下步骤：提供线路基板和掩模板，并对所述掩模板进行漏光设计，在所述线路基板的表面涂敷正性光阻胶后，进行曝光操作；进行显影操作，露出线路基板中的铜面；进行蚀刻，使所述线路基板中裸露出的铜面和...
    2026-05-01
  • 直写式光刻机及扫描曝光方法
    直写式光刻机及扫描曝光方法_合肥芯碁微电子装备股份有限公司_202610146096.5
    本发明公开了一种直写式光刻机及扫描曝光方法，直写式光刻机扫描曝光方法包括：根据光刻机运动平台的理论运动速度和理论触发间距，计算获得位置同步信号的触发周期以作为理论触发周期；根据曝光图形区域的曝光分辨率需求的需求触发间距和实际触发间距确定位置...
    2026-05-01
  • 一种光刻套刻结构、光学转接板及其制造方法
    一种光刻套刻结构、光学转接板及其制造方法_华中科技大学_202610164470.4
    本申请涉及一种光刻套刻结构、光学转接板及其制造方法，涉及光电子集成及半导体制造技术领域，光刻套刻结构包括第一光刻图形区、第二光刻图形区、重叠套刻区域以及绝热拼接锥形结构，第一光刻图形区包含具有第一尺寸精度的第一波导图形；第二光刻图形区包含具...
    2026-05-01
  • 一种刻写工件台用吊装缓降装置及方法
    一种刻写工件台用吊装缓降装置及方法_中国科学院上海光学精密机械研究所_202610221954.8
    一种刻写工件台用吊装缓降装置及方法，属于半导体光刻设备技术领域。装置包括气浮组件和顶升组件；气浮组件包括底面设有小孔节流结构、上支撑面设有圆锥槽的气浮块；顶升组件包括通过弹性件浮动支撑于气浮块上的顶升盖，以及与顶升盖螺纹连接、下端设有与圆锥...
    2026-05-01
  • 一种多级双锥形多腔动态气体锁装置
    一种多级双锥形多腔动态气体锁装置_广东海洋大学_202610264920.7
    一种多级双锥形多腔动态气体锁装置，采用多级双锥形管道节与多级直筒形气腔节串联构型，光孔通道每一级双锥形管道节均分为对流段和抑制段，对流段大口端朝向投影物镜腔室，对流段小口端与抑制段小口端相接形成窄喉口，抑制段大口端朝向硅片台腔室，光孔通道每...
    2026-05-01
  • 可调光阑装置及曝光系统、光阑窗口的成形方法
    可调光阑装置及曝光系统、光阑窗口的成形方法_光科芯图(北京)科技有限公司_202610271131.6
    本发明涉及半导体加工设备技术领域，公开了可调光阑装置及曝光系统、光阑窗口的成形方法。可调光阑装置包括至少沿第一方向相对设置的两个光阑组件，光阑组件包括沿第二方向依次排布的若干光阑模组；任一光阑模组包括相连接的驱动件和光阑片体；至少部分的光阑...
    2026-05-01
  • 微纳加工装置和微纳加工方法
    微纳加工装置和微纳加工方法_乾元国家实验室_202610286541.8
    本申请实施例公开了一种微纳加工装置和微纳加工方法，微纳加工装置包括：激光光源模块，用于输出飞秒脉冲激光；光束调节模块，设置于激光光源模块的出光侧，用于对飞秒脉冲激光进行光束整形处理；扫描模块，设置于光束调节模块的出光侧，用于控制飞秒脉冲激光...
    2026-05-01
  • 光刻机多光源协同高精度曝光控制系统
    光刻机多光源协同高精度曝光控制系统_安徽国芯光刻技术有限公司_202610352315.5
    本发明公开了光刻机多光源协同高精度曝光控制系统，涉及光刻机控制技术领域，通过获取各光源的初始能量参数，构建能量变化与光斑形貌变化的耦合特征集，以光强误差、相位误差与光斑畸变误差为输入，分别生成光源间时序偏移矩阵与光源能量补偿矩阵，并通过矩阵...
    2026-05-01
  • 非球面镜片像差补偿的空间梯度加权融合方法及系统
    非球面镜片像差补偿的空间梯度加权融合方法及系统_南通诺瞳奕目医疗科技有限公司_202610364470.9
    本发明提供了一种非球面镜片像差补偿的空间梯度加权融合方法及系统，通过同步捕获非球面镜片表面5×5网格测量点频带补偿残差构建向量，基于相邻点残差强度差经Dijkstra算法确定最优传播路径及相关参数；计算传播方向敏感系数与权重衰减指数，为各测...
    2026-05-01
  • 光刻动态基准亚毫秒级生成方法及系统
    光刻动态基准亚毫秒级生成方法及系统_南通诺瞳奕目医疗科技有限公司_202610373522.9
    本发明提供了一种光刻动态基准亚毫秒级生成方法及系统，先基于镜面理想曲面方程构建覆盖全参数域的分级曲面网格数据库，高曲率区域精粒度划分并预存三阶导数，非高曲率区域粗粒度划分；再实时接收工件台位姿数据得到加工位置参数域映射点，以该点为中心结合工...
    2026-05-01
  • 一种无限长卷对卷光刻设备
    一种无限长卷对卷光刻设备_深圳市鑫浩自动化技术有限公司_202610177122.0
    本发明涉及曝光设备领域，尤其涉及一种无限长卷对卷光刻设备，包括机架，机架上设置有放卷装置、收卷装置和曝光装置，所述机架上还设置有用于膜料输送的输送导辊，所述曝光装置的曝光头位置不移动，所述机架上还设置有配备驱动结构的真空吸附滚筒，真空吸附滚...
    2026-05-01
  • 光刻胶显影模拟方法、计算机可读存储介质以及计算机程序产品
    光刻胶显影模拟方法、计算机可读存储介质以及计算机程序产品_上海集成电路材料研究院有限公司_202411457476.8
    本发明提供一种光刻胶显影模拟方法、计算机可读存储介质以及计算机程序产品，光刻胶显影模拟方法将光刻胶显影模型划分网格，并根据网格的格点的占据状态来判断光刻胶树脂是否与显影溶剂接触，其中，确定网格的格点的占据状态的方法为：在光刻胶显影模型中构建...
    2026-05-01
  • 显影设备
    显影设备_佳能株式会社_202511460299.3
    本申请涉及一种显影设备，包括显影容器、第一可旋转显影构件、不可旋转地且固定地设置在第一可旋转显影构件内部的第一磁体、第二可旋转显影构件、不可旋转地且固定地设置在第二可旋转显影构件内部的第二磁体、以及管道，该管道包括抽吸口，该抽吸口是入口，通...
    2026-05-01
  • 一种基于大型光学陀螺的超短期世界时预报方法
    一种基于大型光学陀螺的超短期世界时预报方法_中国科学院国家授时中心_202511986469.1
    本发明公开了一种基于大型光学陀螺的超短期世界时预报方法，包括：根据光学陀螺的角速度序列得到日长变化量序列，确定去除高频项和潮汐长周期项的日长变化序列；根据拟合去除高频项和潮汐长周期项的日长变化序列得到的拟合后的残差序列，得到自回归残差模型；...
    2026-05-01
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