Document
拖动滑块完成拼图
专利交易 商标交易 积分商城 国际服务 IP管家助手 科技果 科技人才 会员权益 需求市场 关于龙图腾 更多
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索
五金工具产品及配附件制造技术
  • 本发明公开了一种焊接表面的合金化处理方法,包括:对待处理的焊接表面进行超声波清洗处理;对清洗后的焊接表面进行离子刻蚀处理;在刻蚀后的焊接表面沉积金属合金层。采用本发明的技术方案通过对焊接表面进行合金化处理,能够提高焊接抗拉强度,并且成本较低...
  • 本发明公开一种可见光‑红外兼容隐身ITO薄膜及其制备方法,涉及ITO透明导电薄膜材料技术领域。本发明的制备方法包括:(1)初始段溅射;(2)过渡段溅射;(3)终止段溅射;(4)分段退火处理。本发明通过动态调控氢氩混合气氛与分段退火工艺,实现...
  • 本发明公开的切割刀具的镀膜方法包括:清洗切割刀具的表面后将所述切割工具置于真空腔室内;在所述切割刀具的表面上沉积形成碳保护膜;在所述碳保护膜上沉积钛‑碳复合膜;以及在所述钛‑碳复合膜上沉积类金刚石碳膜。该方法可修复切割刀具表面的披锋、划痕等...
  • 本发明属于热基连续镀锌技术领域,尤其涉及一种厚锌镀层钢构件的生产方法,具体步骤如下:S1:冷硬带钢经过首尾焊接后,通过卧式活套储存,进入到前处理工序;S2:从前处理脱脂清洗过的冷硬带钢进入到卧式退火炉内进行热处理;S3:热浸镀锌;经过热处理...
  • 本发明涉及光学薄膜制备技术领域,具体涉及一种深紫外宽光谱铝反射膜及其制备方法。该方法包括以下步骤:基底清洗和活化处理;真空镀膜;在基底表面依次沉积Si膜、Al膜、Si3N4膜和AlF3膜;退火处理。所述Si膜的厚度为10~20nm,所述Si...
  • 本实用新型公开了一种存储瓶系统,该系统包括:存储瓶以及控制单元,控制单元与存储瓶连接;存储瓶包括高度可调结构,高度可调结构用于调整存储瓶的高度。通过实施本实用新型的系统可实现可调节液体钢瓶高度、在线自动调整工艺参数及延长钢瓶更换和PM周期,...
  • 本发明涉及一种连续流化气固反应装置,包括加热室和设置在加热室内的流化气固反应机构。加热室包含壳板和加热元件,流化气固反应机构包括壁板、多个流化反应腔和相应的气体管路,相邻流化反应腔通过底部的通道连通,反应机构的顶部和底部壁板间交错设置有上隔...
  • 本发明公开了一种在钛合金表面制备复合渗氮涂层的方法,属于表面工程与涂层技术领域。本发明的涂层从内到外依次至少包括氮化物强化层与硬质涂层。硬质涂层包括复合涂层,复合涂层包括在氮化物强化层表面交替沉积A层和B层形成的纳米多层结构,其中A层为Ti...
  • 一种在衬底上产生柔性镍磷镀层的方法。衬底包括其上具有铜层的介电材料。方法包括以下步骤:(1)利用钯活化溶液活化该衬底以催化该衬底,以及2)使所活化的衬底与包含以下各项的无电镀镍磷镀液接触:(i)镍离子源;(ii)次磷酸根离子源;(iii)至...
  • 本发明公开了一种管状物内壁双辉等离子处理装置,包括电极杆和底盘;底盘通过第一陶瓷支柱与靶材托盘相连,底盘通过第二陶瓷支柱与工件托盘相连;靶材托盘上设置靶材一及靶材二,靶材一、靶材二为圆盘形;工件托盘上预留与工件内径相等的孔,工件托盘上还设置...
  • 本发明公开了一种抗海洋高温含氯环境腐蚀的MCrAlY复合防护涂层及其制备方法。MCrAlY复合防护涂层自基体向外依次为富Al金属间化合物M‑A层、MAX相活性Al源层及MCrAlY表层。MAX相层呈{110}面族择优取向且A位原子层法向与涂...
  • 本申请涉及搪锡技术领域,具体涉及一种底部无引线封装元器件焊端自动搪锡去金装置。包括承载架、载料平台、搪锡去金机构和预热机构;载料平台与承载架连接,载料平台具有适于容纳元器件的安装槽,安装槽的槽口被构造为倒角结构以与安装槽中的元器件围合成微池...
  • 本发明公开了一种用于非气密封装的半导体激光器腔面镀膜方法,适用于半导体激光器技术领域。利用该用于非气密封装的半导体激光器腔面镀膜方法得到的膜系结构,其得到的SiN膜层压应力仅为100Mpa, 比现有的SiN膜层应力降低了14倍,耐氢氟酸溶液...
  • 本发明公开了一种生长小直径氮化硼纳米管的方法及其应用。所述方法包括:将催化剂施加于衬底表面,并且所述催化剂与硼源空间分离;采用化学气相沉积法使所述催化剂、硼源、氮源与功能性载体发生反应,得到生长在衬底上的氮化硼纳米管。本发明采用催化剂与硼源...
  • 本实用新型涉及夹持工具技术领域,提供一种卡具。该卡具包括限位座和支撑组件。其中,限位座设有镀膜孔,镀膜孔的内壁设有搭边,搭边与镀膜孔的内壁配合围成限位空间;限位空间用于限位光学元件,镀膜孔的至少一端的开口与光学元件的镀膜面的形状相适配;支撑...
  • 本实用新型属于真空镀膜技术领域,公开一种化学气相沉积设备。化学气相沉积设备包括真空腔室、旋转组件和加热组件,旋转组件包括驱动件和旋转件,旋转件转动连接于真空腔室的腔壁,旋转件设有穿设孔,穿设孔的顶端开口处设置有衬底载盘;驱动件用于驱动旋转件...
  • 本发明公开了一种磁控溅射阴极靶及镀膜装置,其中阴极靶包括阴极套和阴极柱,阴极套为筒状,阴极套的内侧壁上设有靶材层;阴极柱设置在阴极套内,且阴极柱沿阴极套的轴线设置,且阴极柱由阴极套的一端延伸至另一端;阴极柱内为中空的,阴极柱的外侧壁上设有靶...
  • 本发明公开了一种钝化膜色彩可替代六价铬彩钝的镀锌三价铬钝化剂及其制备方法,该镀锌三价铬钝化剂按重量份计包括以下组分:三价铬盐80‑120份;其它金属盐10‑20份;色彩调整剂5‑10份;氧化剂30‑40份;成膜促进剂10‑20份;络合剂10...
  • 本实用新型公开一种匀气装置及镀膜设备,其中,匀气装置包括在竖直方向间隔设置的第一板和第二板,第一板上设置多个贯通结构,每个贯通结构均沿第一板的厚度方向贯通第一板,且贯通结构的两端的流通面积不同,贯通结构的大径端朝向喷淋板,贯通结构的小径端朝...
  • 本实用新型涉及一种基片预处理装置,包括真空腔体、上部加热单元、基片承载单元和射频功率单元;真空腔体上端与上部加热单元密封配合,真空腔体下端与基片承载单元密封连接,内部形成预处理腔,上部加热单元位于预处理腔内下端部布设有加热灯管;基片承载单元...
技术分类