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一种真空炉渗碳系统
本实用新型公开了一种真空炉渗碳系统,包括:真空渗碳机柜,真空渗碳机柜上方中部一端设置有液压伸缩杆,液压伸缩杆上方一端固定设置有升降托板,真空渗碳机柜上方外侧一端固定设置有真空渗碳炉体,真空渗碳炉体内侧底部固定设置有支撑托架,支撑托架上方一端...
一种成膜装置及CVD设备
本申请公开了一种成膜装置及CVD设备,属于半导体技术领域,该成膜装置,包括:壳体,具有容纳腔以及与容纳腔连通的开口;反应容器,设置于容纳腔内,反应容器具有反应腔以及与反应腔连通的观测孔,观测孔将容纳腔与反应腔连通;观察组件,穿设于开口,且与...
基座和气相沉积装置
本申请提供了一种基座和气相沉积装置。基座包括承载面、收容腔体、驱动气体输送管路、导气流道、集气槽和排气管道,收容腔体设于承载面,顶面开口以放置基板承载件或基板;导气流道设有至少一个且设置于收容腔体的腔体内底面,导气流道包括与驱动气体输送管路...
一种具备冗余式绝缘镀层的钛合金耳机外壳及其制备方法
本发明涉及高保真电声器件制造技术领域,具体提供了一种具备冗余式绝缘镀层的钛合金耳机外壳及其制备方法,其中,所述方法包括:S1、对经前处理的导电金属耳机外壳基体,在真空镀膜设备中沉积第一复合绝缘镀层,得到第一工件;S2、将第一工件相对于首次沉...
真空腔室的进气组件及气相沉积设备
本实用新型公开了一种真空腔室的进气组件及气相沉积设备,涉及半导体制造技术领域。该真空腔室的进气组件包括进气环和匀气环,进气环设有径向延伸的进气流道。匀气环同轴设于进气环内圈,匀气环设有与进气流道连通的进气孔、沿周向均匀分布的出气孔,以及连接...
一种精细异构件全件均匀磷化装置
本实用新型公开了一种精细异构件全件均匀磷化装置,所述精细异构件上设置有细小通孔,磷化装置包括有磷化槽,其特征在于:磷化槽中设置有托盘,托盘表面平铺有不锈钢细网,不锈钢细网上放置有精细异构件和微型泵,微型泵的出水口端连接有胶管,胶管另一端连接...
一种等离子喷枪辅助校准装置
本实用新型公开了一种等离子喷枪辅助校准装置,本实用新型涉及等离子喷枪技术领域,包括防护壳和安装箱,安装箱固定安装在防护壳的上端面,防护壳的上端面开设有槽口,安装箱的内壁上固定安装有伺服电机,本实用新型的优点在于:通过螺栓穿过安装孔,将U形架...
一种锅炉管用防护材料及其制备方法、锅炉管的防护方法
本发明属于表面工程技术领域,提供了一种锅炉管用防护材料及其制备方法、锅炉管的防护方法。本发明的锅炉管用防护材料包括以下质量分数的组分:Al:6~20wt.%;Cr:18~24wt.%;Mo:5~7wt.%;Co:1~5wt.%;Si:0.5...
一种真空镀膜机的门体密封调节结构
本实用新型提供一种真空镀膜机的门体密封调节结构,包括真空腔、门体、以及若干铰链结构;铰链结构包括锁固于门体上的第一固定座,锁固于真空腔外壁上的第二固定座,以及连接块;第一固定座的前侧形成第一凹槽,连接块的第一端通过第一销轴转动安装于第一凹槽...
一种超宽光斑的熔覆激光头
本实用新型涉及熔覆激光头技术领域,且公开了一种超宽光斑的熔覆激光头,所述机头的前端设有激光装置,所述机头的中部安装有安装架,通过在安装架内设置两个限位卡板,安装时将固定板沿安装架内侧空间插入,固定板前端与限位卡板斜面接触后,推动限位卡板向外...
一种数控高速激光熔覆加工设备
本发明适用于熔覆设备技术领域,提供了一种数控高速激光熔覆加工设备,包括底板与防护机构,所述底板的顶部固定连接有加工箱体,所述加工箱体的前侧面设置有推拉式箱门;所述防护机构包括容纳箱,所述容纳箱固定连接于所述加工箱体内壁底部的后侧,所述加工箱...
一种基于增材制造用的激光熔覆装置及方法
本发明公开了一种基于增材制造用的激光熔覆装置及方法,涉及增材制造技术领域;而本发明包括机架,所述机架底部设有移动工作平台,机架中部设有侧板,侧板外侧设有丝杆式升降装置,丝杆式升降装置驱动端设有升降框,升降框外侧设有激光熔覆机,激光熔覆机外壁...
一种真空镀膜机的集成式辅助设备
本实用新型提供一种真空镀膜机的集成式辅助设备,其技术要点在于:包括冷水箱,设有输出纯水的第二水路及第一水泵,以及与镀膜机冷却水路入口连接的第一接口;冷水机,用于将从第二水路中输出的纯水制冷至设定温度;热水箱,设有与镀膜机冷却水路出口连接的第...
一种CVD背板清洁气体管路结构
本实用新型公开了一种CVD背板清洁气体管路结构,包括安装在背板本体内部的用于实现清洁气体逐一进入角度调节机构内对腔室内部不同角落进行清洁的出气调节机构,所述背板本体的内侧开设有腔室,所述角度调节机构包括固定管道、伸缩软管和活动硬管,所述活动...
一种无铬钝化剂及其制备方法和应用方法
本发明涉及钝化剂技术领域,具体涉及一种无铬钝化剂及其制备方法和应用方法,无铬钝化剂以质量百分比为100%计,包括以下组分:六氟钛酸铵2‑3%、二氧化硅溶胶6‑8%、钼酸钠2‑3%、聚醚改性七甲基三硅氧烷0.2‑0.5%、硅烷偶联剂10‑15...
一种防飞溅的蒸镀装置
本申请涉及半导体蒸镀设备技术领域,公开了一种防飞溅的蒸镀装置,包括:蒸镀主体、蒸镀衬套及第一凹台,所述蒸镀主体的上表面设有至少一蒸镀容置槽,所述蒸镀衬套配置在所述蒸镀容置槽内,且包括底壁连接体和侧壁连接体,所述侧壁连接体连接在所述底壁连接体...
一种用于玻璃基板的高磁性复合膜层及其制备方法和应用
本发明公开了一种用于玻璃基板的高磁性复合膜层及其制备方法和应用,属于功能性涂层材料与表面工程技术领域。本发明解决了磁性复合膜层与玻璃基板结合力低、内应力强,无法实现较大厚度和高饱和磁化强度的问题。本发明采用磁控溅射技术在玻璃基底表面依次沉积...
一种含钛的热镀铝锌合金镀层、钢板及其制备方法
本发明一种含钛的热镀铝锌合金镀层、钢板及其制备方法,该合金镀层包括以下重量百分比的化学成分,Al:55.0%、Si:1.6%、Ti:0.010%‑0.050%、Zn余量。该合金镀层钢板包括钢基体以及附着于钢基体表面含钛的热镀合金镀层。该制备...
基板处理装置以及基板处理方法
本发明的课题在于提供一种控制处理区域中的处理气体的状态的基板处理装置及基板处理方法。基板处理装置具备:处理室;载置台,配置在处理室内,用于载置基板;气体供给机构,与载置台对置配置,对基板供给处理气体;处理区域,形成在载置台与气体供给机构之间...
一种加热台升降装置及半导体设备
本实用新型公开了一种加热台升降装置及半导体设备,该装置用于驱动加热台升降,加热台固定安装于升降底座上,装置包括:驱动机构,用于驱动升降底座上下运动;导轨机构,包括竖向对称设置于升降底座两侧的导轨单元;同轴度调整机构,与升降底座连接,包括X轴...
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