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最新专利技术
  • 一种大幅面硬对硬压印装置、压印方法、脱模方法及存储介质
    一种大幅面硬对硬压印装置、压印方法、脱模方法及存储介质_苏州光舵微纳科技股份有限公司_202512020172.6
    本发明提供一种大幅面硬对硬压印装置，包括：视觉检测模块、气囊模块、母版模块以及模具；视觉检测模块悬于所述气囊模块上方，用于观察所述母版模块与模具压印贴合情况以及测量所述模具与母版模块间距离；气囊模块至少包括，气囊和气囊吸盘，气囊设置于气囊吸...
    2026-05-01
  • 结构色的纳米压印生成方法、装置及压印设备
    结构色的纳米压印生成方法、装置及压印设备_深圳大学_202610148327.6
    本申请提供了一种结构色的纳米压印生成方法、装置及压印设备，涉及纳米压印技术领域，方法包括：沿第一方向，通过压头对工件的表面进行多次压印，形成第一凹坑序列；第一凹坑序列包括第一凹坑以及位于第一凹坑的第一方向的第二凹坑，第一凹坑与第二凹坑之间沿...
    2026-05-01
  • 用于从含金属抗蚀剂移除边缘珠粒的组合物、含金属抗蚀剂的显影剂组合物、以及使用所述组合物形成图案的方法
    用于从含金属抗蚀剂移除边缘珠粒的组合物、含金属抗蚀剂的显影剂组合物、以及使用所述组合物形成图案的方法_三星SDI株式会社_202511485502.2
    公开了一种用以从含金属抗蚀剂移除边缘珠粒的组合物或一种含金属抗蚀剂的显影剂组合物、以及一种利用所述组合物和/或所述显影剂组合物来形成或提供图案的方法。用以从含金属抗蚀剂移除边缘珠粒的所述组合物或含金属抗蚀剂的所述显影剂组合物可包含：多酚系化...
    2026-05-01
  • 用于从含金属抗蚀剂移除边缘珠粒的组合物、含金属抗蚀剂的显影剂组合物、以及使用所述组合物形成图案的方法
    用于从含金属抗蚀剂移除边缘珠粒的组合物、含金属抗蚀剂的显影剂组合物、以及使用所述组合物形成图案的方法_三星SDI株式会社_202511487538.4
    公开了一种用以从含金属抗蚀剂移除边缘珠粒的组合物或一种含金属抗蚀剂的显影剂组合物、以及一种利用所述组合物或所述显影剂组合物来形成或提供图案的方法。用以从含金属抗蚀剂移除边缘珠粒的所述组合物或含金属抗蚀剂的所述显影剂组合物可包含：环状化合物，...
    2026-05-01
  • 利用杂化光刻胶制备纳米多孔图形的方法
    利用杂化光刻胶制备纳米多孔图形的方法_中国科学院光电技术研究所_202610240306.7
    本公开提供了一种利用杂化光刻胶制备纳米多孔图形的方法，包括：配制包含杂化光刻胶的光刻胶溶液；将光刻胶溶液在可控环境下静置老化预设时间段，以诱导光刻胶溶液中形成金属团簇分子，得到老化后的光刻胶溶液；对老化后的光刻胶溶液进行过滤，筛选出具有目标...
    2026-05-01
  • 感光抗蚀剂组合物、感光性干膜以及应用
    感光抗蚀剂组合物、感光性干膜以及应用_杭州福斯特电子材料有限公司_202610319123.4
    本发明提供了一种感光抗蚀剂组合物、感光性干膜以及应用。按重量份计，该感光抗蚀剂组合物中包括20份~45份的丙烯酸共聚物树脂、13~27份的光聚合性化合物以及0.3份~2.3份的第一光引发剂；感光抗蚀剂组合物固化形成的涂层经曝光处理，其进光侧...
    2026-05-01
  • 一种微镜组件和直写光刻系统
    一种微镜组件和直写光刻系统_张江国家实验室_202411474652.9
    本申请公开了一种微镜组件和直写光刻系统。该直写光刻系统包括光源、微反射镜阵列、微凸镜阵列和工作台；光源用于朝向微反射镜阵列产生照射光；微反射镜阵列用于将照射光调制成目标图案光束，并射向至微凸镜阵列；微凸镜阵列用于接收目标图案光束并处理成聚焦...
    2026-05-01
  • 改善芯片曝光的方法和大尺寸芯片曝光方法
    改善芯片曝光的方法和大尺寸芯片曝光方法_长电科技管理有限公司_202511915346.9
    本发明提供了一种改善芯片曝光的方法和大尺寸芯片曝光方法。通过在形成分割芯片的切割线时，通过选择所述切割线的路径为直线或者折线，简化图形的拉伸计算；通过控制所述切割线的宽度大于或者等于切割宽度阈值，确保图形在切割和拉伸后仍能保持良好的形状和尺...
    2026-05-01
  • 晶圆的量测点的确定方法、电子设备和存储介质
    晶圆的量测点的确定方法、电子设备和存储介质_苏州镁伽科技有限公司_202511966155.5
    本发明实施例提供了一种晶圆的量测点的确定方法、电子设备和存储介质。晶圆的量测点的确定方法包括对晶圆的最初量测点执行一次或多次剔除操作，直到符合第一预设要求时结束，并将最初量测点中的在结束时所删除的所有量测点以外的量测点确定为最终量测点，剔除...
    2026-05-01
  • 用于晶圆量测的成像配置确定方法、装置和电子设备
    用于晶圆量测的成像配置确定方法、装置和电子设备_苏州镁伽科技有限公司_202511966195.X
    本发明实施例提供了一种用于晶圆量测的成像配置确定方法、装置和电子设备。用于晶圆量测的成像配置确定方法包括：获取目标晶圆的目标成像属性信息，目标成像属性信息包括：目标工艺参数信息、目标量测点的位置信息和目标基础成像信息；将目标成像属性信息输入...
    2026-05-01
  • 晶圆的套刻方法、装置、电子设备和存储介质
    晶圆的套刻方法、装置、电子设备和存储介质_苏州镁伽科技有限公司_202511970340.1
    本发明实施例提供了一种晶圆的套刻方法、装置、电子设备和存储介质。晶圆的套刻方法包括：利用经训练的量测点预测模型，确定目标晶圆的多个目标量测点的位置信息，进而确定套刻补偿量；基于套刻补偿量进行目标晶圆的套刻操作；基于多个目标量测点的位置信息，...
    2026-05-01
  • 一种光罩夹持机构
    一种光罩夹持机构_江苏启微半导体设备有限公司_202511990428.X
    本发明公开了半导体光罩夹持领域的一种光罩夹持机构，该机构包括具有旋转及位移输出端的电动旋转夹爪、对称设置的延长杆以及带有V型卡槽的定位爪，至少一个定位爪通过力度控制单元与延长杆连接，力度控制单元被配置为，在带动光罩翻转的过程中，在保持定位爪...
    2026-05-01
  • 一种刻蚀负载效应模型的建立方法、产品及设备
    一种刻蚀负载效应模型的建立方法、产品及设备_深圳晶源信息技术有限公司_202610008505.5
    提供一种刻蚀负载效应模型的建立方法、产品及设备。该刻蚀负载效应模型的建立方法包括：获取刻蚀后的版图中多个不同区域的相同图形单元的图形轮廓，并选取其中符合负载效应要求的一图形单元的图形轮廓作为目标图形轮廓；分别将其他图形单元的图形轮廓与目标图...
    2026-05-01
  • 一种提升油墨附着力的COF卷带设计
    一种提升油墨附着力的COF卷带设计_合肥颀材科技有限公司_202610115023.X
    本发明公开了一种提升油墨附着力的COF卷带设计，包括如下步骤：提供线路基板和掩模板，并对所述掩模板进行漏光设计，在所述线路基板的表面涂敷正性光阻胶后，进行曝光操作；进行显影操作，露出线路基板中的铜面；进行蚀刻，使所述线路基板中裸露出的铜面和...
    2026-05-01
  • 直写式光刻机及扫描曝光方法
    直写式光刻机及扫描曝光方法_合肥芯碁微电子装备股份有限公司_202610146096.5
    本发明公开了一种直写式光刻机及扫描曝光方法，直写式光刻机扫描曝光方法包括：根据光刻机运动平台的理论运动速度和理论触发间距，计算获得位置同步信号的触发周期以作为理论触发周期；根据曝光图形区域的曝光分辨率需求的需求触发间距和实际触发间距确定位置...
    2026-05-01
  • 一种光刻套刻结构、光学转接板及其制造方法
    一种光刻套刻结构、光学转接板及其制造方法_华中科技大学_202610164470.4
    本申请涉及一种光刻套刻结构、光学转接板及其制造方法，涉及光电子集成及半导体制造技术领域，光刻套刻结构包括第一光刻图形区、第二光刻图形区、重叠套刻区域以及绝热拼接锥形结构，第一光刻图形区包含具有第一尺寸精度的第一波导图形；第二光刻图形区包含具...
    2026-05-01
  • 一种刻写工件台用吊装缓降装置及方法
    一种刻写工件台用吊装缓降装置及方法_中国科学院上海光学精密机械研究所_202610221954.8
    一种刻写工件台用吊装缓降装置及方法，属于半导体光刻设备技术领域。装置包括气浮组件和顶升组件；气浮组件包括底面设有小孔节流结构、上支撑面设有圆锥槽的气浮块；顶升组件包括通过弹性件浮动支撑于气浮块上的顶升盖，以及与顶升盖螺纹连接、下端设有与圆锥...
    2026-05-01
  • 一种多级双锥形多腔动态气体锁装置
    一种多级双锥形多腔动态气体锁装置_广东海洋大学_202610264920.7
    一种多级双锥形多腔动态气体锁装置，采用多级双锥形管道节与多级直筒形气腔节串联构型，光孔通道每一级双锥形管道节均分为对流段和抑制段，对流段大口端朝向投影物镜腔室，对流段小口端与抑制段小口端相接形成窄喉口，抑制段大口端朝向硅片台腔室，光孔通道每...
    2026-05-01
  • 可调光阑装置及曝光系统、光阑窗口的成形方法
    可调光阑装置及曝光系统、光阑窗口的成形方法_光科芯图(北京)科技有限公司_202610271131.6
    本发明涉及半导体加工设备技术领域，公开了可调光阑装置及曝光系统、光阑窗口的成形方法。可调光阑装置包括至少沿第一方向相对设置的两个光阑组件，光阑组件包括沿第二方向依次排布的若干光阑模组；任一光阑模组包括相连接的驱动件和光阑片体；至少部分的光阑...
    2026-05-01
  • 微纳加工装置和微纳加工方法
    微纳加工装置和微纳加工方法_乾元国家实验室_202610286541.8
    本申请实施例公开了一种微纳加工装置和微纳加工方法，微纳加工装置包括：激光光源模块，用于输出飞秒脉冲激光；光束调节模块，设置于激光光源模块的出光侧，用于对飞秒脉冲激光进行光束整形处理；扫描模块，设置于光束调节模块的出光侧，用于控制飞秒脉冲激光...
    2026-05-01
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