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  • 本发明公开了一种高模量高附着覆金属板,包括金属层,金属层的一表面依次叠设有第一聚酰亚胺层和第二聚酰亚胺层;第一聚酰亚胺层的第一涂布液包括含苯并咪唑单元的二胺单体、含砜基单元的二胺单体、活性封端剂以及柔性二酐单体;第二聚酰亚胺层的第二涂布液包...
  • 本发明公开了一种超低摩擦的聚酰亚胺基梯度纳米复合涂层及其制备方法,属于金属表面改性与防护技术领域。本发明的聚酰亚胺基梯度纳米复合涂层为位于基材表面的聚酰亚胺层,以及在所述聚酰亚胺层表面或内部通过自组装形成的、包含纳米填料的梯度复合结构层;其...
  • 本发明公开了一种封端二异氰酸酯打底的高承载耐腐蚀PAI/PTFE/BTO复合涂层的制备方法,属于功能涂层材料技术领域。本发明的技术方案要点包括:采用γ‑氨丙基三乙氧基硅烷对纳米钛酸钡进行表面修饰,得到KH550改性BTO;将微米级PTFE经...
  • 本发明公开了一种用于碳陶瓷线性电阻标记的绝缘漆及其制备方法与应用,属于电工材料技术领域,包括以下重量份原材料:快干型硅树脂30‑80份,氧化铬10‑40份,消泡剂1‑5份,流平剂1‑3份和氨基硅烷偶联剂10‑20份;制备方法包括以下具体步骤...
  • 本发明涉及一种电气化铁路接触网绝缘子防冰涂层及其制备方法和应用。该防冰涂层由附着力促进剂乙烯基封端的环氧聚硅氧烷(VEPS)、疏水纳米二氧化硅(HDTMS / VTES‑SiO2)、有机硅涂料和溶剂制备而成,通过VEPS与基材的共价键合、S...
  • 本发明公开一种抗基材强度衰减保护膜材料、制备工艺及使用工艺,该抗基材强度衰减保护膜材料包括有以下质量百分比的成分组成:二甲基硅橡胶 60‑80%、Y‑缩水甘油醚氧丙基三甲氧基硅烷10‑30%、新癸酸 1‑5%、松香酸1‑5%以及三乙烯二胺1...
  • 本发明公开了一种基于高温耐受的保温隔热涂料制备方法,涉及涂料技术领域,包括,有机硅树脂基体、隔热填料、界面耦合体系以及催化剂体系;所述有机硅树脂基体的分子链中含有硅氢键;所述隔热填料包含云母功能填料;所述界面耦合体系包含乙烯基功能性烷氧基硅...
  • 本发明属于涂层制备技术领域,提供了一种高压输电线防凝露防覆冰自清洁涂层及其制备方法。本发明涂料固化后在导线表面形成由内至外依次设置的底涂层、中间功能层与面涂层,底涂层为硅烷、无机组分构成的杂化粘结层,中间功能层以硅氧烷弹性体为连续相,含相变...
  • 本发明属于功能涂料技术领域,具体涉及一种有机硅疏水疏冰涂料及其制备方法。所述涂料由包括以下组分的原料制备而成:氢封端聚二甲基硅氧烷、乙烯基MQ树脂、硅烷偶联剂改性的纳米二氧化硅、催化剂、有机溶剂。本发明还提供了所述涂料的制备方法及由该涂料制...
  • 本发明提供了一种用于高端紧固件的固体粘接润滑防护涂层的制备方法及应用,属于高温防护涂层技术领域。本发明固体粘接润滑防护涂料包括以下质量份数的原料:陶瓷前驱体粘接剂5~15份;填料4~14份;填料包括低温段填料和高温段填料;分散介质30~60...
  • 本发明提供了一种水性聚硅环氧瓷釉全能涂料及制备方法,包括以下质量百分比的组分:基础树脂体系:30‑50%;瓷釉功能填料:20‑35%;助剂体系:10‑20%;余量为去离子水;其中,所述基础树脂体系为自交联型水性聚硅环氧树脂,由环氧改性有机硅...
  • 本申请公开了一种高稳定性天然植物提取物生物基涂料的制备方法,涉及涂料技术领域,包括如下步骤:步骤1、原料改性:按质量比为30 : 100‑110 : 1‑1.2的玉米淀粉、去离子水和NaOH混合糊化获得淀粉糊液,再与接枝物封端接枝处理,获得...
  • 本发明公开了一种基于化学锚定的自分层全生物质基低表面能防污涂层及其制备方法和应用,属于高分子材料技术领域;该防污涂层按照重量份数计,包括以下原料:100份环氧植物油、5‑40份结构上含有疏水链长侧链的生物质酚类化合物、5‑45份天然多元羧酸...
  • 本发明属于水性涂层技术领域,涉及一种具有防闪锈功能的乘用车用水基封堵涂层,按重量份包括10‑20份费托蜡、15‑20份磺化羊毛脂铈/镧盐、30‑70份水、1‑4份菲甲酸二甲基乙醇胺盐、2份对苯二甲酸二酰肼、1‑5份乙酰乙酸基甲基丙烯酸乙酯改...
  • 本发明属于负离子涂料技术领域,尤其涉及一种石墨烯负离子涂料,按重量百分比计,原料组成包括:钛白粉15‑25%、高岭土4‑6%、高钙粉10‑20%、天然树脂乳液20‑40%、托玛琳1‑2%、稀晶石粉1‑2%、水25‑30%及单层石墨烯溶液1‑...
  • 本发明提供了一种化学机械抛光液,包括:水、研磨颗粒、钨抛光促进剂、稳定剂、过氧化物、第一种钨腐蚀抑制剂、第二种钨腐蚀抑制剂以及多羟基环状化合物。本发明的化学机械抛光液,将第一钨的腐蚀抑制剂和第二钨的腐蚀抑制剂复配使用,具有较低的钨静态抛光速...
  • 本发明公开了一种高效磷酸氧钛钾晶体抛光液及其制备方法和抛光方法。由包括以下重量百分比的原料制成:5%‑15%胶体二氧化硅、0.1%‑1%螯合剂、0.5‑3.0%氧化剂、0.01‑0.1%表面活性剂,余量为去离子水;还包括pH调节剂,所述pH...
  • 本发明涉及半导体制造技术领域,尤其涉及一种用于半导体晶圆化学机械抛光的低缺陷率复合抛光液,包括按重量百分比的以下成份:核壳磨料CeO2@C 8‑12%,柠檬酸‑硼酸盐1.5‑2.5%,过硫酸钾‑抗坏血酸0.3‑0.8%,聚丙烯酸分散剂0.1...
  • 本发明属于抛光材料领域,涉及一种用于抛光液的硼掺杂氧化铈、其制备方法及应用。硼掺杂氧化铈中,硼元素与氧化铈中的铈元素的摩尔比为1 : 1‑1 : 10。硼掺杂氧化铈通过铈盐与硼源经共沉淀反应生成前驱体后,再对前驱体进行煅烧制备得到。本发明通...
  • 本发明涉及厌氧胶技术领域,具体为一种用于磁致伸缩器件的弹性厌氧胶,包括以下重量份的物质:丙烯酸酯40~90份、二异氰酸酯8~40份、二异氰酸酯封端的聚丙二醇10~30份、引发剂2~8份、催化剂0.5~2份和促进剂0.5~1份。本发明弹性厌氧...
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