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  • 本发明公开了一种用于旋转机械监控的组态系统及运行方法,包括:系统组态模块、设备管理模块、画面组态模块、通信服务模块、数据管理模块、报警系统模块、工程管理模块和用户管理模块;系统组态模块用于配置系统架构;设备管理模块用于管理工程所组态的设备,...
  • 本发明公开了预应力智能张拉的模糊PID同步控制系统,具体涉及建筑工程液压控制技术领域,预应力智能张拉的模糊PID同步控制系统包括控制模块;伺服驱动模块;采集模块;执行模块和反馈模块,本系统通过分级模糊规则库,针对初张拉和持荷不同阶段动态切换...
  • 本发明涉及精密光学控制技术领域,尤其涉及一种和差模态协同控制的双执行器视轴稳定成像方法及系统,计算第一执行器和第二执行器的角速度信息之间的和模态变量与差模态变量;对两模态变量进行逆模态变换,得到分别控制第一执行器和第二执行器的独立控制命令;...
  • 本申请涉及一种3×3非相似的飞控计算架构、系统及其控制方法,包括:3个FCM,每个所述FCM包括三个非相似的支路;4个两两非相似的作动器控制电子ACE;其中,每个FCM中的两个支路通过IOC共用点对点通讯,剩余支路则与另外两个FCM的剩余支...
  • 本申请公开一种北斗授时安全隔离防护装置和方法。其中,北斗授时安全隔离防护方法包括:对接收到的卫星信号进行射频处理,获得射频处理信号;对所述接收到的卫星信号进行监测识别,获得观测数据;根据所述射频处理信号和所述观测数据,进行可靠性计算,获得第...
  • 本发明提供了一种具有容错机制的高精度及时卫星授时与守时方法,将设备授时与守时所需的UTC时间信息分为整秒部分与秒后小数部分;设备在第一次接收到秒脉冲之后一直通过内部计时进行自守时;通过判断秒脉冲与卫星报文整秒UTC时间的连续性,并利用设备计...
  • 本发明涉及音乐节拍训练辅助装置领域,公开了一种舞蹈音乐节拍训练装置。本发明中,所述功能实现主体内表面固定连接有主平台,所述整体位移框内表面活动连接有限位板,所述整体位移框外表面焊接有撞针,所述主平台上表面对应被撞击块中间焊接有固定块,所述固...
  • 本发明公开了一种智能手表检测装置,包括安装架,所述安装架的上端固定连接有顶板,所述安装架上安装有动态驱动组件,所述动态驱动组件包括伺服电机、主臂及副臂,所述伺服电机安装于顶板上,多个所述主臂转动连接在顶板下端,所述顶板上安装有传动杆,所述传...
  • 本申请公开了一种刻蚀制备擒纵轮的方法,属于微纳加工技术领域。本申请技术方案的方法包括:提供目标厚度的薄硅片,以及在所述薄硅片的一面制备软掩模;将所述薄硅片背离所述软掩模的一面通过导热液体粘合于衬底上,得到粘合片;对所述粘合片上所述软掩模的一...
  • 本申请公开了一种制备硅擒纵轮的方法,属于微纳加工技术领域。本申请提供的方法包括:提供目标厚度的薄硅片,以及在所述薄硅片的一面刻蚀形成若干盲孔;在所述薄硅片背离所述盲孔一侧的表面制备软掩模;对所述薄硅片上所述软掩模的一侧进行刻蚀,以将所盲孔的...
  • 本发明公开了一种基于大型光学陀螺的超短期世界时预报方法,包括:根据光学陀螺的角速度序列得到日长变化量序列,确定去除高频项和潮汐长周期项的日长变化序列;根据拟合去除高频项和潮汐长周期项的日长变化序列得到的拟合后的残差序列,得到自回归残差模型;...
  • 本申请涉及一种显影设备,包括显影容器、第一可旋转显影构件、不可旋转地且固定地设置在第一可旋转显影构件内部的第一磁体、第二可旋转显影构件、不可旋转地且固定地设置在第二可旋转显影构件内部的第二磁体、以及管道,该管道包括抽吸口,该抽吸口是入口,通...
  • 本发明提供一种光刻胶显影模拟方法、计算机可读存储介质以及计算机程序产品,光刻胶显影模拟方法将光刻胶显影模型划分网格,并根据网格的格点的占据状态来判断光刻胶树脂是否与显影溶剂接触,其中,确定网格的格点的占据状态的方法为:在光刻胶显影模型中构建...
  • 本发明涉及曝光设备领域,尤其涉及一种无限长卷对卷光刻设备,包括机架,机架上设置有放卷装置、收卷装置和曝光装置,所述机架上还设置有用于膜料输送的输送导辊,所述曝光装置的曝光头位置不移动,所述机架上还设置有配备驱动结构的真空吸附滚筒,真空吸附滚...
  • 本发明提供了一种光刻动态基准亚毫秒级生成方法及系统,先基于镜面理想曲面方程构建覆盖全参数域的分级曲面网格数据库,高曲率区域精粒度划分并预存三阶导数,非高曲率区域粗粒度划分;再实时接收工件台位姿数据得到加工位置参数域映射点,以该点为中心结合工...
  • 本发明提供了一种非球面镜片像差补偿的空间梯度加权融合方法及系统,通过同步捕获非球面镜片表面5×5网格测量点频带补偿残差构建向量,基于相邻点残差强度差经Dijkstra算法确定最优传播路径及相关参数;计算传播方向敏感系数与权重衰减指数,为各测...
  • 本发明公开了光刻机多光源协同高精度曝光控制系统,涉及光刻机控制技术领域,通过获取各光源的初始能量参数,构建能量变化与光斑形貌变化的耦合特征集,以光强误差、相位误差与光斑畸变误差为输入,分别生成光源间时序偏移矩阵与光源能量补偿矩阵,并通过矩阵...
  • 本申请实施例公开了一种微纳加工装置和微纳加工方法,微纳加工装置包括:激光光源模块,用于输出飞秒脉冲激光;光束调节模块,设置于激光光源模块的出光侧,用于对飞秒脉冲激光进行光束整形处理;扫描模块,设置于光束调节模块的出光侧,用于控制飞秒脉冲激光...
  • 本发明涉及半导体加工设备技术领域,公开了可调光阑装置及曝光系统、光阑窗口的成形方法。可调光阑装置包括至少沿第一方向相对设置的两个光阑组件,光阑组件包括沿第二方向依次排布的若干光阑模组;任一光阑模组包括相连接的驱动件和光阑片体;至少部分的光阑...
  • 一种多级双锥形多腔动态气体锁装置,采用多级双锥形管道节与多级直筒形气腔节串联构型,光孔通道每一级双锥形管道节均分为对流段和抑制段,对流段大口端朝向投影物镜腔室,对流段小口端与抑制段小口端相接形成窄喉口,抑制段大口端朝向硅片台腔室,光孔通道每...
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