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摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 基于Doris实时数仓的动态用户分群与借款营销系统及方法
    基于Doris实时数仓的动态用户分群与借款营销系统及方法_上海即科智能技术集团有限公司_202610059406.X
    本发明公开了基于Doris实时数仓的动态用户分群与借款营销系统及方法，属于金融技术领域，基于Doris实时数仓的动态用户分群与借款营销系统，包括数据采集层、数据存储层、规则配置层、实时计算层和营销执行层。本发明通过构建“实时数据采集‑动态规...
    2026-04-29
  • 水系剥离液及其制备方法和应用
    水系剥离液及其制备方法和应用_佛山西陇化工有限公司_202511015080.2
    本发明提供了一种水系剥离液及其制备方法和应用，具体涉及光刻技术领域。该水系剥离液包括极性溶剂、渗透剂、表面活性剂、腐蚀抑制剂、增溶剂和纯水。该水系剥离液中，极性溶剂能够渗透到光刻胶内部，破坏其分子间作用力，使光刻胶结构松散；渗透剂加速溶剂向...
    2026-04-29
  • 为聚焦量测学设计聚焦目标的方法
    为聚焦量测学设计聚焦目标的方法_ASML荷兰有限公司_202480061625.0
    公开了一种用于设计聚焦目标的方法，该聚焦目标用于确定被用来形成所述目标的光刻设备聚焦设置。该方法包括：确定初始目标设计，该初始目标设计被配置为增强掩模3D效应，该3D效应源于三维掩模版特征以及离轴束入射到掩模版上所引起的效应，该掩模版包括根...
    2026-04-29
  • 用于对配备有至少一个冗余传感器以检测和隔离传感器的故障的设备进行控制的系统
    用于对配备有至少一个冗余传感器以检测和隔离传感器的故障的设备进行控制的系统_赛峰飞机发动机公司_202480062146.0
    这种配备有至少一个设备(1i)的航空发动机(1)的控制系统包括：一个或多个冗余传感器(3)，该一个或多个冗余传感器(3)中的每个冗余传感器能够测量航空发动机(1)的运行参数；以及用于每个设备(1i)的冗余传感器的两个测量通道(3ia、3ib...
    2026-04-29
  • 两级矫正装置
    两级矫正装置_中国科学院光电技术研究所_202610324121.4
    本公开提供了一种两级矫正装置，可应用于掩模形变矫正技术领域。该装置包括：第一活动组件，第一活动组件的一端能够沿第一方向移动；第二活动组件，第二活动组件包括热隔离层和放大组件，放大组件通过热隔离层设于第一活动组件上，夹持组件，夹持组件包括弹性...
    2026-04-29
  • 一种等离子体光刻成像方法、装置、设备及介质
    一种等离子体光刻成像方法、装置、设备及介质_中国科学院微电子研究所_202411502209.8
    本申请提供一种等离子体光刻成像方法、装置、设备及介质，包括：获取等离子体光刻成像的成像结构的轴向方向以及成像结构包括的呈二维周期性变化的多个掩模图形的边的延伸方向。光线以和轴向方向呈预设的离轴角度以及和掩模图形每个边的延长方向呈预设的方位角...
    2026-04-29
  • 一种PCB制造用菲林架设装置
    一种PCB制造用菲林架设装置_江西强达电路科技有限公司_202521163620.7
    本实用新型公开了一种PCB制造用菲林架设装置，涉及PCB制造技术领域，包括：下玻璃台面和放置在其上的菲林本体，菲林本体的四角通过菲林打孔机加工出工具孔；外撑框，固定安装在下玻璃台面的四周；四个销孔，开设在下玻璃台面上，且与工具孔的位置相对应...
    2026-04-29
  • 一种通过模拟输入控制的音频放大器芯片及音频放大器
    一种通过模拟输入控制的音频放大器芯片及音频放大器_上海雅创芯和微电子有限公司_202512051833.1
    本申请实施例公开了一种通过模拟输入控制的音频放大器芯片及音频放大器，音频放大器芯片包括输入端口、控制机制算法库、电压产生电路、正电压电源、栅极驱动单元、半桥电路，控制机制算法库包括负电压控制机制算法，电压产生电路包括负压产生电路，半桥电路由...
    2026-04-29
  • 一种玻璃掰断运送设备及其工作方法
    一种玻璃掰断运送设备及其工作方法_广东凯强机械设备有限公司_202610179188.3
    本申请属于玻璃加工设备结构的技术领域，具体涉及一种玻璃掰断运送设备，包括运送掰断结构、吸取移动结构和流转收纳结构，所述运送掰断结构包括运送组件、平移下压组件、旋转夹持组件和上升掰断组件，所述旋转夹持组件包括旋转横轨、位于旋转横轨上且并列设置...
    2026-04-29
  • 一种T/R组件用宽带增益正斜率幅相控制多功能芯片
    一种T/R组件用宽带增益正斜率幅相控制多功能芯片_四川益丰电子科技有限公司_202610409536.1
    本发明提供了一种T/R组件用宽带增益正斜率幅相控制多功能芯片，涉及射频集成电路技术领域，包括：接收通道、发射通道、均衡电路、数控衰减器和数控移相器、收发切换开关模块以及并行控制模块；并行控制模块用于向数控衰减器、数控移相器和收发切换开关模块...
    2026-04-29
  • 一种线路油墨的光敏组合物及其制备方法
    一种线路油墨的光敏组合物及其制备方法_广东炎墨方案科技股份有限公司_202610287874.2
    本发明提供了一种线路油墨的光敏组合物及其制备方法。本发明在采用小粒径填料以保障图像分辨率和图形侧边清晰度的基础上，引入了高玻璃化转变温度的碱溶性树脂：该类树脂因玻璃化转变温度较高，在预烘并恢复至室温后，膜面可形成稳定的玻璃态，既具备足够的机...
    2026-04-29
  • 一种便于调节的投影仪支架
    一种便于调节的投影仪支架_佛山市金翔禾五金塑料制品有限公司_202520712035.1
    本实用新型涉及一种便于调节的投影仪支架，包括底板，所述底板的表面转动连接有螺纹套管，所述底板的底部固定有若干个万向轮。所述移动块表面的一侧固定有连接块，所述连接块的表面滑动设置有滑杆，所述滑杆的底部固定于底板的表面。所述支架本体的底部固定安...
    2026-04-29
  • 光学元件驱动机构
    光学元件驱动机构_艾特电科技股份有限公司_202520450099.9
    一种光学元件驱动机构，包括一第一活动部、一第二活动部以及一第一驱动组件。第一活动部用以连接一光学元件。第一活动部可相对第二活动部运动。第一驱动组件用以驱动第一活动部运动。
    2026-04-29
  • 一种间巯基苯甲酸配位的锡氧簇光刻胶及其应用
    一种间巯基苯甲酸配位的锡氧簇光刻胶及其应用_大连理工大学_202610036032.X
    一种间巯基苯甲酸配位的锡氧簇光刻胶及其应用，本发明属于光刻材料技术领域。该光刻胶以间巯基苯甲酸配位的锡氧簇化合物为活性组分，与酯、酮、醇或烷烃类有机溶剂配制成光刻胶组合物，并可按需加入流平剂、光引发剂或光酸等辅助组分。该类团簇具有优异的热稳...
    2026-04-29
  • 带抖动修正功能的光学单元
    带抖动修正功能的光学单元_日本电产三协株式会社_202211646245.2
    本发明提供一种带抖动修正功能的光学单元，在具有俯仰方向和偏转方向的抖动修正功能的带抖动修正功能的光学单元中，能够实现小型化，并且能够防止从摄像头模块引出的配线基板的损伤。在该带抖动修正功能的光学单元中，在中间部件保持部上形成有在Y方向上配置...
    2026-04-29
  • 光致抗蚀剂组合物及图案形成方法
    光致抗蚀剂组合物及图案形成方法_杜邦电子材料国际有限责任公司_202480061857.6
    一种光致抗蚀剂组合物，其包含以基于光致抗蚀剂组合物的总固体大于50 wt%的组合量存在的一种或多种非溶剂碱不溶性基础材料；非聚合离子光酸产生剂化合物，其包含阴离子和碘鎓或锍阳离子，其中阴离子由如本文所定义的式(1)表示；以及溶剂，其中光致抗...
    2026-04-29
  • 一种图案化材料与基底中间涂层组合物及其应用和器件
    一种图案化材料与基底中间涂层组合物及其应用和器件_珠海基石科技有限公司_202610162981.2
    本发明提供了一种图案化材料与基底中间涂层组合物及其应用和器件，组合物包括主体树脂A、主体树脂B、热致产酸剂和溶剂；所述热致产酸剂中阴离子对应的共轭酸的酸性解离常数pKa低于‑3；所述主体树脂A和主体树脂B均含有可交联基团，且在150~300...
    2026-04-29
  • 光源装置以及投影型显示装置
    光源装置以及投影型显示装置_索尼集团公司_202180057402.3
    本公开的一个实施方式的光源装置具备：第一光源部，出射第一光；第二光源部，出射第二光，并且与第一光源部并列配置；第一反射镜，与第一光源部的出射面对置配置，并且在面内离散配置有将第一光向一个方向反射的多个第一反射部；以及第二反射镜，与第二光源部...
    2026-04-29
  • 金属层图形预处理方法、修正目标图形及刻蚀方法
    金属层图形预处理方法、修正目标图形及刻蚀方法_合肥晶合集成电路股份有限公司_202610399687.3
    本发明提供一种金属层图形预处理方法、修正目标图形及刻蚀方法，其中金属层图形预处理方法是在添加亚分辨率辅助特征之后、光学邻近校正之前，增加以下步骤：选取原始目标图形中会形成热点区域的转角；将转角替换为斜线；将斜线阶梯化，得到优化后的目标图形，...
    2026-04-29
  • 反转图案形成方法
    反转图案形成方法_信越化学工业株式会社_202511511212.0
    本发明涉及反转图案形成方法。本发明的课题为提供可适用于使用高能射线的光学光刻尤其可适用于电子束(EB)光刻及EUV光刻的图案形成方法，该图案形成方法使用感度及极限解析度优良的非化学增幅抗蚀剂组成物来形成抗蚀剂图案，并以蚀刻耐性高的反转图案形...
    2026-04-29
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