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喷涂装置;染料;涂料;抛光剂;天然树脂;黏合剂装置的制造及其制作,应用技术
  • 一种多级周期耐磨涂层及其制备方法
    一种多级周期耐磨涂层及其制备方法_武汉理工大学_202610306147.6
    本发明公开了一种多级周期耐磨涂层及其制备方法，属于材料表面工程技术领域。所述涂层沿厚度方向由承载主层和增韧过渡层交替堆叠而成，形成多级周期结构。其中，所述承载主层采用CrN基涂层与TiAlN基涂层沿厚度方向交替分布；所述增韧过渡层位于相邻承...
    2026-05-07
  • 类金刚石碳膜的处理方法
    类金刚石碳膜的处理方法_东莞新科技术研究开发有限公司_202411516387.6
    本发明的类金刚石碳膜的处理方法包括：在基材上沉积类金刚石碳膜；将所述类金刚石碳膜暴露在电离气体中；在所述类金刚石碳膜的表面形成硼化物涂层；以及对所述硼化物涂层进行热处理。该方法简单高效，能够显著提高类金刚石碳膜的电导率，同时不会影响类金刚石...
    2026-05-07
  • 一种高延迟断裂强度的14.9级螺栓用钢、14.9级螺栓及其制备方法与应用
    一种高延迟断裂强度的14.9级螺栓用钢、14.9级螺栓及其制备方法与应用_陕西汉德车桥有限公司_202610207234.6
    本发明属于紧固件技术领域，尤其涉及一种高延迟断裂强度的14.9级螺栓用钢、14.9级螺栓及其制备方法与应用。与现有技术相比，本发明通过采用控制钢材中的化学成分，添加V、Nb微合金化元素，细化晶粒，提高螺栓强韧性及疲劳寿命。进一步，本发明在螺...
    2026-05-07
  • 用于生产粗钢的方法及用于其生产的成套设备
    用于生产粗钢的方法及用于其生产的成套设备_蒂森克虏伯钢铁欧洲股份公司_202180056284.4
    本发明涉及一种用于生产低氮粗钢的方法。该方法包括以下方法步骤：‑将直接还原的铁和/或废料在带电弧电阻加热的熔炼炉中熔化成金属熔体和熔渣；‑将金属熔体从熔炼炉中取出，并填充到转炉中；‑在转炉中将金属熔体精炼成液态粗钢，并将氮含量[N]不超过5...
    2026-05-07
  • 一种1000MPa级低密度中锰钢及其制备方法
    一种1000MPa级低密度中锰钢及其制备方法_湖南科技大学_202511147448.0
    本发明涉及一种1000 MPa级低密度中锰钢及其制备方法，属于钢铁冶金及金属材料加工技术领域，所述低密度中锰钢由如下质量百分含量的化学成分组成：C 0.80%~0.95%，Al 7.50%~9.30%，Mn 8.35%~12.87%，Si ...
    2026-05-07
  • 一种利用蛋清溶菌酶提高精酿啤酒保鲜期和口感的方法
    一种利用蛋清溶菌酶提高精酿啤酒保鲜期和口感的方法_齐鲁工业大学(山东省科学院)_202610196469.X
    本发明涉及啤酒酿造技术领域，公开了一种利用蛋清溶菌酶提高精酿啤酒保鲜期和口感的方法，该方法包括：进行麦汁制备及主发酵；在主发酵结束至灌装前的阶段，向酒液中添加经纯化制备的蛋清溶菌酶溶液，控制终浓度为15‑90mg/L；将酒液在0‑5℃条件下...
    2026-05-07
  • 一种锡基薄膜及其制备方法和应用
    一种锡基薄膜及其制备方法和应用_中山大学_202610173400.5
    本发明属于薄膜技术领域，公开了一种锡基薄膜及其制备方法和应用。该锡基薄膜由锡基材料采用物理气相沉积法沉积而成，沉积的方式为梯度分步沉积，梯度分步沉积的次数n≥2，且梯度分步沉积的工艺参数满足以下关系式：当n=2时，首次载板移动速度>最后一次...
    2026-05-07
  • 一种精炼铸钢及制备方法
    一种精炼铸钢及制备方法_华禹钢铁(浙江)有限公司_202510566789.5
    本发明涉及精钢材料技术领域，具体为一种精炼铸钢及制备方法，按质量比包括以下原料：C含量0.1％的废钢800份，C含量3.5％的生铁200份，锰铁18.5份，铬铁24份，金属镍5份，钼铁3份，钒铁0.2份，硼铁0.02份，脱氧剂11.5份；其...
    2026-05-07
  • 超薄超宽低温钢板及其生产方法
    超薄超宽低温钢板及其生产方法_江苏省沙钢钢铁研究院有限公司_202610109603.8
    本申请提供一种超薄超宽低温钢板及其生产方法，钢板的化学成分以质量百分比计包括：C：0.06%~0.09%，Si：0.15%~0.25%，Mn：1.10%~1.20%，P≤0.012%，S≤0.003%，Cr：0.10%~0.20%，Ni：0...
    2026-05-07
  • 一种自织构HVOF/PVD复合涂层及其制备方法和应用
    一种自织构HVOF/PVD复合涂层及其制备方法和应用_兰州理工大学_202610158783.9
    本发明提供了一种自织构HVOF/PVD复合涂层及其制备方法和应用，涉及表面涂层技术领域。本发明的自织构HVOF/PVD复合涂层，包括金属基体、NiCr‑Cr3C2金属陶瓷支撑层、Cr粘接层、Cr/CrxCy梯度过渡层和DLC薄膜层；所述Ni...
    2026-05-07
  • 一种用于液氢储运的高强韧钢板及其制备方法
    一种用于液氢储运的高强韧钢板及其制备方法_东北大学_202610404976.8
    本发明属于钢铁材料及其制备技术领域，公开一种用于液氢储运的高强韧钢板及其制备方法。控制各化学成分质量百分数并满足膜状逆变奥氏体形成倾向指数。通过合理的成分配比、高洁净度冶炼、连铸、轧制与热处理协同控制，获得回火马氏体与膜状逆变奥氏体双相组织...
    2026-05-07
  • 一种面向于阀座密封面的激光熔覆方法
    一种面向于阀座密封面的激光熔覆方法_新海阀门有限公司_202510498124.5
    本发明提供了一种面向于阀座密封面的激光熔覆方法，包括如下步骤：首先，依据阀座规格在阀座密封面上开出加工所需凹槽，再根据阀座密封面材质选择丝材对阀座密封面进行光内同轴送丝式激光熔覆，然后去除渣壳、并依据阀座密封面材质选择粉末并使用铺粉装置实施...
    2026-05-07
  • 一种提高加速器中子源靶冷却系统防腐蚀性的方法
    一种提高加速器中子源靶冷却系统防腐蚀性的方法_华硼中子科技(杭州)有限公司_202610003526.8
    本发明涉及硼中子俘获治疗领域，公开了一种提高加速器中子源靶冷却系统防腐蚀性的方法，包括：1)利用激光打标处理在加速器中子源靶冷却系统的铜基底的非靶材层所在表面形成呈周期性微米级波纹状的氧化膜；2)利用磁控溅射在氧化膜表面生长呈体心立方结构的...
    2026-05-07
  • 一种高电导率6101B铝合金的制备方法及6101B铝合金
    一种高电导率6101B铝合金的制备方法及6101B铝合金_广东占美新材料有限公司_202610167099.7
    本发明涉及铝合金材料及制备技术领域，尤其涉及一种高电导率6101B铝合金的制备方法及6101B铝合金，按质量百分比计，其成分组成包括：Si 0.34%~0.42%、Fe 0.1%~0.13%、Cu≤0.01%、Mn≤0.01%、Mg 0.4...
    2026-05-07
  • 一种侧基含卤素双酚化合物及其制备方法和应用
    一种侧基含卤素双酚化合物及其制备方法和应用_中国科学院大连化学物理研究所_202310369046.X
    本申请公开了一种侧基含卤素双酚化合物及其制备方法和应用。所述制备方法包括以下步骤：步骤1、将酚酞和芳香伯胺衍生物的盐酸盐溶于芳香伯胺衍生物中，氨解反应，淬灭分离，得到含卤素的2‑芳基‑3, 3‑双(羟基芳基)苯并吡咯酮衍生物粗品；步骤2、将...
    2026-05-07
  • 一种辛二烯单甲醚的制备方法
    一种辛二烯单甲醚的制备方法_中国石油天然气股份有限公司_202411544691.1
    本发明提供一种辛二烯单甲醚的制备方法。本发明提供的辛二烯单甲醚的制备方法中，甲醇与丁二烯发生调聚反应后，对反应液进行共沸分离并萃取分液后得到高纯度的产物辛二烯单甲醚，共沸分离过程中未被分离出的催化剂可循环使用。此方法实现了低温环境下产物与催...
    2026-05-07
  • 基于磁控溅射的铜掺杂DLC薄膜制备方法
    基于磁控溅射的铜掺杂DLC薄膜制备方法_合肥铠膜新材料科技有限公司_202610434948.0
    本发明涉及基于磁控溅射的铜掺杂DLC薄膜制备方法，属于类金刚石薄膜制备技术领域，通过设计铜碳比为1：3的专用拼接靶，结合镀膜前样品相对靶材摆放位置的精准调整与DLC薄膜制备阶段乙炔通入流量的梯度控制，形成多维度协同的铜掺杂含量调控机制，可在...
    2026-05-07
  • 由聚烯烃制备戊二烯的方法和应用
    由聚烯烃制备戊二烯的方法和应用_中国石油化工股份有限公司_202311355048.X
    本发明涉及聚烯烃领域，公开了由聚烯烃制备戊二烯的方法，所述方法包括：将水与聚烯烃的混合物进行热处理，得到含戊二烯的产物。通过以上方法，可以成功由聚烯烃制备得到含戊二烯的产物，且含戊二烯的热处理产物中戊二烯的收率较高。
    2026-05-07
  • 一种高导电率与加工性能铝合金型材及其加工方法
    一种高导电率与加工性能铝合金型材及其加工方法_江苏亚太轻合金科技股份有限公司_202310931145.2
    本发明提供一种高导电率与加工性能铝合金型材，按质量百分数计，包括以下组分：Si0.35‑0.4%、Fe0.1‑0.2%、Cu≤0.01%、Mn≤0.01%、Mg0.4%‑0.45%、Cr≤0.01%、Zn≤0.01%、Ti≤0.02%、Ni...
    2026-05-07
  • 用于制备含硅膜的前驱物和方法
    用于制备含硅膜的前驱物和方法_恩特格里斯公司_202180031709.6
    本文提供可用于沉积含硅膜的某些液体硅前驱物，所述含硅膜是例如包含硅、氮化硅、氧氮化硅、二氧化硅、碳化硅、碳掺杂的氮化硅或碳掺杂的氧氮化硅的膜。还提供利用气相沉积技术形成所述膜的方法。
    2026-05-07
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