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  • 本发明涉及光刻技术领域,尤其涉及一种基于泰伯自成像的光波导母版缺陷自适应光刻方法,通过采集光波导母版的设计周期和曝光波长参数,计算泰伯自成像距离,并驱动涂覆光刻胶的基底精确定位至该距离处;在定位完成后启动相干光输出,同时控制基底进行平面内周...
  • 本申请属于微纳加工与光刻技术领域,具体涉及一种一步制备图形边缘框架结构的光刻方法。通过将包含光致产酸剂、聚合物和溶剂的光致抗蚀剂涂布成膜后,通过掩模版进行单次曝光,在薄膜内依据酸浓度分布自发形成三个特性区域:曝光区域酸浓度最高,触发聚合物先...
  • 本发明公开了一种光刻机掩模版手动拿取工具,包括:下层结构,包括相连接的掩模版导入部件和掩模版承接部件;掩模版导入部件位于前端。位于下层结构之上的上层结构,包括由丝杆和丝杆套筒形成的掩模版移动部件,丝杆套筒套设在丝杆上,丝杆套筒的内侧面用于和...
  • 一种光刻形貌异常的解决方法包括步骤:S1,提供一片产品片;S2,涂胶、曝光以及显影;S3,观察形貌;S4,如果观察到的线条白边与标准卡的相同的正常成像焦距下的线条白边相比大于规定值,则说明光刻形貌异常;S5,将观察到的线条白边对应到标准卡的...
  • 一种解决光刻形貌异常的方法包括步骤:S1,产线上产品片涂胶、曝光及显影;S2,观察形貌,光刻形貌异常;S3,提供第一线下测试片;S4,涂胶、曝光以及显影;S5,第一线下测试片再次送入步骤S4的曝光的机台,最佳焦点的平均值大于步骤S4的固定步...
  • 本发明提供一种金属层版图的处理方法,属于半导体制造技术领域,本发明的修正方法包括:获取金属层版图和与所述金属层版图相对应的通孔层版图;按照第一预设规则提取所述金属层版图中的第一工艺热点图案和所述第一工艺热点图案周围预设范围内的背景图案;以第...
  • 本发明公开了一种基于微静电透镜阵列的并行电子束成像光刻系统及控制方法,旨在解决现有电子束光刻效率低、系统复杂、无法灵活缩放的技术问题。该系统沿电子束运动方向依次包括统一电子源、微静电透镜阵列、电子缩放聚焦单元、光阑板及真空样品台,还包括驱动...
  • 本发明实施例提供了一种基于OIS阵列的激光直写成像系统、方法,用于实现不平整曝光面的激光直写成像,提高激光直写成像的精度。方法包括:获取基底的3D表面形貌模型数据,生成各光刻头在扫描路径上各位置的Z轴目标坐标;根据OIS阵列的排布,生成各个...
  • 本发明实施例提供了一种基于单轴微位移器件的激光直写成像系统、方法,用于实现不平整曝光面的激光直写成像,提高激光直写成像的精度。本发明实施例方法包括:获取基底的3D表面形貌模型数据;根据所述3D表面形貌模型数据,生成各单轴微位移器件单元在扫描...
  • 本发明提供了一种半导体版图处理方法与相关产品。其中上述方法包括:获取半导体版图上的修正目标边;按照预设长度对修正目标边进行一次打断,并对修正目标边进行一次光学邻近效应修正,得到与修正目标边对应的初步优化边;根据初步优化边与修正目标边之间的间...
  • 本发明涉及曝光技术领域,具体提供了曝光光机匀化照明装置及方法,装置包括激光器、光消散器和光匀化器,激光器用于发射目标激光;光消散器设置在激光器的一侧,用于接收目标激光并对目标激光进行匀化处理,输出第一匀化光;光匀化器设置在光消散器的一侧,包...
  • 本发明公开了用于柔性补强件的卷对卷掩膜曝光能量均衡方法,涉及柔性电子制造技术领域,包括:对曝光样品进行曝光测试,并获取标准曝光参数;获取曝光子区以及柔件子区,基于柔件子区的已曝光参数以及标准曝光参数,对曝光区内进行掩膜曝光时的光强进行控制;...
  • 本发明公开了一种基于数字光刻技术的拼接精度提升方法及设备,属于数字光刻领域。该方法包括:标定步骤,根据各成像模组的DMD倾斜方向排列,标定成像范围及重叠区域,确定图形切割起始位置;分配步骤,计算各镜头分配的条带宽度,所述条带宽度基于相邻镜头...
  • 本申请属于电子器件领域,具体涉及一种显影方法、图案化的方法、制备电子器件的方法,旨在解决对曝光的图案化层进行显影形成图案化层图案时,曝光图案恶化的问题;显影方法,包括:对已曝光处理的功能层依次进行第一洗涤处理、有机显影剂处理、碱溶液处理和第...
  • 提供用于确定衬底的对准的系统、设备和方法。示例性方法可以包括朝向衬底的表面的区发射包括第一波长和第二波长的多波长辐射束。所述示例性方法还可以包括响应于所述多波长辐射束对所述区的辐照而测量指示处于所述第一波长的一阶衍射的第一衍射辐射束。所述示...
  • 一种电子照相感光体、处理盒及图像形成装置,所述电子照相感光体具备导电性基体、配置于所述导电性基体上的电荷产生层及配置于所述电荷产生层上的电荷输送层,其中,所述电荷输送层含有酚化合物、聚芳酯树脂、聚碳酸酯树脂及电荷输送材料,根据汉森溶解度参数...
  • 一种电子照相感光体、处理盒及图像形成装置,所述电子照相感光体,其具备:导电性基体;以及感光层,配置于所述导电性基体上且具有电荷产生层及电荷传输层,其中,所述电荷传输层含有电荷传输材料、选自由下述式(A2)所表示的二羧酸单元(A2)、式(A3...
  • 一种电子照相感光体、处理盒及图像形成装置,所述电子照相感光体具备:导电性基体;以及层叠型感光层,配置于所述导电性基体上且具有电荷产生层及电荷传输层,其中,所述电荷传输层含有具有下述式(A)所表示的二羧酸单元(A)及式(B)所表示的二醇单元(...
  • 一种电子照相感光体、处理盒及图像形成装置,所述电子照相感光体,其具备:导电性基体;下涂层,配置于所述导电性基体上;以及层叠型感光层,配置于所述下涂层上且具有电荷产生层及电荷传输层,所述电荷传输层含有电荷传输材料及聚芳酯树脂,所述聚芳酯树脂包...
  • 一种电子照相感光体、处理盒及图像形成装置,电子照相感光体具备:导电性基体;以及感光层,配置于所述导电性基体上,最表面层含有电荷传输材料、聚芳酯树脂及硅油,相对于所述最表面层,所述硅油的含量为0.001ppm以上且15000.000ppm以下...
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